Proe的最经典的特征操作

1、Pro/e的最经典的特 征操作继 续下一页上一页目 录一、概述二、特征的隐含、隐藏、删除和恢复三、零件（模型）的修改与重新生成四、特征生成失败及其解决办法五、特征的复制与阵列六、特征的成组七、特征投影八、特征包络继 续下一页上一页 如修改特征尺寸、修改截面形状、变更父子关系即重定一特征属性等；对某些相似的特征进行复制、阵列、删除、调整生成次序的操作及其它一些操作。 特征操作是对已建特征进行各种修改的一些操作。一、概述：注：特征元素的拾取方法： ProE野火版题提供了“选取工具”，以方便特征的操作与编辑。在不同的环境下使用选取工具，可方便的选取特征元素。继 续下一页上一页不同模式下的选取工具继

2、续下一页上一页1、零件模式下元素的选取：智能注：点击鼠标左键或刷新工具，可取消选取。继 续下一页上一页注意按下Shift键进行曲面环的选取：按下Shfit键选择曲面继 续下一页上一页特征：继 续下一页上一页几何：继 续下一页上一页基准：继 续下一页上一页面组：继 续下一页上一页注释:继 续下一页上一页2、转配模式下的元素选取：零件继 续下一页上一页3、编辑模式下的元素选取:继 续下一页上一页4、查询选取模式:继 续下一页上一页二、特征的隐含、隐藏、删除和恢复 、特征的隐含与恢复：1、基本概念： 当零件模型比较复杂时，为了简化零件模型，加速显示及再生速度，可以将一些特征暂时消去，可作隐含操作。

3、隐含特征的目的是为了提高零件的重新生成速度，可以暂时不显示被隐含的特征。当需要时可以恢复显示。隐含（Suppress）的特征不再参与任何计算和再生。2、隐含特征的操作方法：方法1：在模型树中选择特征，在右键弹出菜单中选择【隐含】 命令。继 续下一页上一页方法2：先选择特征，在主菜单中选择【编辑】【隐含】 命令。方法3：在主菜单中选择【编辑】【特征操作】从出现 的菜单中选择【隐含】，然后选取特征，单击【完成】。继 续下一页上一页注：、如果想在模型树上显示被隐含的特征名，可以在导航卡 中选择设置中的树过滤器，选中对话框中的隐含的对象，然 后确定。这时被隐含的特征名前有个添黑的小正方形标记。、隐含特

4、征“子项”特征操作 ： 在【隐含】对话框中点击【选项】，选择【子项处理】：右击或使用菜单命令。继 续下一页上一页、隐含：隐含该子项；、保留（挂起）：不隐含该子项特征，但需要重新定义 子项特征参照；、冻结：仅限于组件模式，将所选特征组件（子元件） 保留在其当前位置；、替换参照：重定义所选子特征的参照；、重定义：重定义所选特征；、显示参照：显示所选子特征所使用的几何参照；、信息：显示所选子特征的信息。继 续下一页上一页3、隐含恢复（Resume）操作：、在模型树中：选中被隐含的特征后右击，选取【恢复】 命令。、选取【编辑】菜单中的【恢复】命令。、选定：恢复所选的特征；、上一个：恢复最后一个隐含的特

5、征；、所有：恢复所有隐含的特征。、基准特征的隐藏（Hide）与恢复（Unhide）：可用隐藏操作隐藏选定的基准特征。1、隐藏操作方法：选中要隐藏的基准特征后右击，选取 隐藏命令。继 续下一页上一页2、隐藏恢复操作：选中被隐藏的基准特征后右击， 选取取消隐藏命令、特征的删除： 特征的删除操作与隐含操作十分相似，区别在于被删除的特征不能再恢复。1、特征删除的方式：继 续下一页上一页选中特征，选择主菜单【编辑】【删除】选项。选中特征，按键盘上的【Delete】键；在模型树中选取特征，按右键，选择弹出菜单中的【删除】；特征删除的方式： 注： 如果要删除复制子特征，须先使用【分解组】命令将 特征分解，然

6、后再执行删除操作； 如果要删除阵列子特征，则需选择弹出菜单中的 【删除阵列】，否则将把父特征一起删除； 如果删除父特征，那么子特征也将受到牵连，其操作 同隐含操作。 继 续下一页上一页三、零件（模型）的修改与重新生成：通过修改零件中的模型特征达到修改零件的目的。、修改特征属性： 修改特征属性是指对已创建的特征属性如名称等进行 重新编辑。1、修改特征名称：（养成好的习惯）操作方法：、在模型树中：右击要修改名称的特征，选择 【重命名】命令。、在绘图区中：选中要修改的特征后，选择【编辑】 菜单中的【设置】中的【零件设置】中的【名称】 命令。继 续下一页上一页 2、特征的只读设置：当要保证特征不被修改

7、时，可将特征设置为只读。操作方法：在模型树或绘图区中选择特征后，选择【编辑】 菜单中的【只读】命令。、选取：选取特征，使其和所有该特征之前生成的特征 变为只读 。、特征号：输入一个特征编号使得它和所有之前生成的特 征变为只读 。、所有特征：是所有特征只读。、清除：取消特征的只读。继 续下一页上一页3、修改基准曲线的属性（线形、颜色等）：方法：在模型树中或工作区选中基准曲线后，选右击快捷 菜单中的【属性】命令或选择【编辑】菜单中的【属性】 命令，系统弹出【线体】对话框：、修改特征尺寸： 修改（编辑）特征尺寸包括尺寸的属性、文本和文本样式进行修改。操作方法：继 续下一页上一页1、在模型树中：选中要

8、修改的特征后右击，选【编辑】 命令。所选特征尺寸显示在绘图区中。、左键双击要修改的尺寸，输入新的尺寸值即可。、选中要修改的尺寸，右键单击尺寸，弹出快捷 菜单，通过【尺寸值】和【属性】可编辑尺寸属性、 尺寸文本和 文本样式。2、在绘图工作区中：用左键双击要修改的特征，在工作区中 会显示出要修改的特征尺寸，尺寸修改方法同前。、特征的重定义： 重定义(编辑定义）是指重新定义特征的创建方式，包括特征的几何数据、草绘平面、参照、二维截面等。继 续下一页上一页 操作方法：1、在模型树中：选中要重定义的特征后右击，选择【编辑定义】 命令。2、在绘图工作区中：选中要重定义的特征，选择【编辑】菜单 中的【定义】

9、命令。 、扫描和混合特征的重定义：1、扫描特征的重定义：操作方法：同前。、轨迹重定义：继 续下一页上一页、截面重定义：、其它重定义：选择要重定义的【元素】，点击【定义】。2、混合特征的重定义：、混合特征的截面重定义：、平行：可重新定义截面位置 重新定义截面继 续下一页上一页、旋转：修改截面移出截面增加截面显示截面选择截面方式截面例题：显示截面：bianjijiemian-liti2继 续下一页上一页、特征的插入和重新排序：1、插入特征：步骤：、选择【编辑】菜单中的【特征操作】命令，在 出现的【特征】菜单中选择【插入模式】命令，点 击【激活】；或用左 键将模型树种的： 拖到要插入的位置。、选择一

10、个特征，在其后插入新的特征。备选特征之后的所有特征将被自动隐含。、用常规特征创建方式创建新特征。、单击【编辑】菜单中【恢复】，恢 复隐含的特征。或在【插入模式】中， 单击【取消】命令。继 续下一页上一页 2、重新排序（Recorder）： 选择【编辑】菜单中的【特征操作】，在出现【特征】菜单中，单击【重新排序】。、选取：通过模型树选取要重新排序的特征（可多个）， 单击【完成】选取。、层：通过选择【层】来选取层中的所有特征，完成后从 【层选取】菜单中单击【完成】选取。、选择要排序的特征：继 续下一页上一页、范围：通过输入起始和终止特征的特征编号来 指定排序特征范围，完成后单击【完成】选取。、确定

11、排序位置： 完成选取后，再【重新排序】菜单中可单击下列之一确定特征的新位置：、之前：在插入点特征之前插入特征；、之后：在插入点特征之后插入特征。选取特征，点击【完成】。注：、也可用左键按住选定的特征不放并拖动到指定位置。、特征的重排序是有条件的，条件是不能将子特征拖至其父特征的前面。如果要调整有父子关系特征的顺序，必须解除父子关系。继 续下一页上一页、调整特征的父子关系： 在创建一个特征时，往往需要定义特征的草绘平面、草平面的参照和截面的草图参照（点、线、面）（尺寸标注参照)，在特征的草绘界面中还需要标注截面的定位尺寸、建立一些约束，而这些草绘平面、草绘平面的垂直参照平面、截面的草图参照（点、

12、线、面）等往往都是其它特征的点、线、面，形成父子关系。草绘平面垂直草绘平面的参照平面尺寸标注参照（草绘平面、参照平面、尺寸标注平面相互垂直）继 续下一页上一页改变特征间的父子关系方法：1、改变特征截面的标注参照基准或约束方式。例：yinghan-liti1中孔1的线性参照是边，需改变后，孔和倒圆角特征才能重排序。改变2、应用“编辑定义”，删除原参照，重新定义特征的 草绘平面、参照平面及尺寸标注平面 。继 续下一页上一页3、编辑特征参照：即改变特征的草绘平面、 参照平面、两个尺寸标注平面。见编辑参照。、修改特征参照： 修改参照（重新定义草绘平面、其参考平面和尺寸标注参照）是指改变特征的参照以断开

13、父子关系。操作方法：1、选择编辑菜单中的【参照】命令；2、在模型树中选择特征后右击，选择【编辑参照】命令；3、在绘图区选择特征后右击，选择【编辑参照】命令等。可替换、可相同参照例题：编辑yinghan-liti中的拉伸3的参照：继 续下一页上一页选择【替换参照】【单一图元】系统提示：完成草绘平面由实体曲面换为DTM1继 续下一页上一页注意系统默认基准平面正向为拉伸特征生成方向正向为拉伸特征生成方向。可改变基准平面方向继 续下一页上一页注意：、草绘平面方向。 、草绘平面方向总是指向屏幕里面。 、拉伸特征生成方向与草绘平面方向相反 ，总是指向屏幕外面。可改变草绘平面方向可直接点击改变方向继 续下一

14、页上一页注：、在编辑参照过程中，系统会检测特征重定义的参照 情况，以确定新旧参照是否兼容，若不兼容系统会给 出警告，并继续处理。 、对过渡的倒圆角、成组的阵列特征、只读特征不能 重定义参照。、零件的精度设置： “精度”命令可修改几何计算的计算精度。零件精度与零件大小有关。精度的有效范围为：，系统默认值是。若减少零件精度值，再生时间就会增加。精度类型：分相对精度和绝对精度两种。精度设置方法：通过【编辑】菜单中【设置】命令设置。1、相对精度：继 续下一页上一页相对精度是系统默认状态的精度，可通过 输入精度值设置。2、绝对精度：、使用绝对精度时必须配置选项:enable_absolute_accur

15、cy设置为yes；、选择【编辑】菜单中设置，点击【精度】；、按Esc后选择【绝对精度】命令： 、输入值：可有一定范围，零件精度与 零件大小有关。 、选取特征：给选定零件设定绝对精度。继 续下一页上一页、零件模型的再生： 当零件模型发生了特征尺寸、截面、编辑关系等变化时，需要对零件模型进行再生操作，以重新计算发生变化的特征及被影响的特征。 操作方法：点击再生模型按钮 ,或选择【编辑】菜单中的【再生】命令。、视图的简化表示：当零件设计过于复杂时，系统可提供简化表示功能。见后续“模型的视图管理”。 继 续下一页上一页四、特征生成失败及其解决办法 在特征创建或重定义等时，由于给定的数据不当或参照的丢失

16、，会出现特征生成失败。根据创建特征的环境类型（即特征是否使用对话框界面），特征失败的出现与解决办法分：1、对于使用对话框界面的特征，单击对话框中的“预览”按钮 后，如特征失败，解决按钮会出现在特征对话框中， 这时需要分析失败产生的原因，用“定义”按钮重新 定义特征有关元素，或单击“解决”按钮，进入特征 失败“解决”环境，系统显示“求解特征”下拉菜单， 该菜单提供许多解决失败的方法。 例题：Jieju-Liti2更改瓶口处两条边倒圆角，半径0.6 。继 续下一页上一页 更改后，由于旋转特征截面中的定位尺寸5是以完全圆角的一条边为参照的，上述重定义后完全角不存在，使旋转特征截面的参照丢失，出现特征

17、生成失败。2、对于不使用对话框界面的特征，若特征失败，系统则直接 显示“求解特征”的下拉菜单。、特征失败原因：特征创建或再生时出现下列情况时，特征失败。继 续下一页上一页1、不良几何；（扫描时轨迹曲率小，截面大）2、断开父子关系 ；例题：jieju-liti2（删除圆角） 3、参照丢失或无效等。Jieju-Liti2(修改圆角）、特征失败原因的诊断（调查）：选择【求解特征】中的【调查】命令：失败模型原备份模型显示失败特征父子项及参考例题：yinghan-liti 继 续下一页上一页显示参考：失败特征丢失的参照。点击后系统提示：注：可选择备份模型查看丢失的参照类型。继 续下一页上一页备份模型：选

18、择【备份模型】选择【显示参照】丢失的参照继 续下一页上一页、特征失败的解决方法：1、取消更改：恢复到特征操作失败前。 如果求解特征中的取消更改是灰 色的，则需寻求其它的解决办法。2、快速修复：、“删除”特征：删除失败的特征。 系统弹出是退出特征失败环境，还是不退出特征失败环境（yes/no）。目的：恢复到失败前，或进行修改。 可通过【快速修复】中的【重定参照】解决失败操作。 继 续下一页上一页失败特征被删除后，如想找回以前的文件，方法如下：、选择【窗口】菜单中的【关闭】命令，关闭当前对话框；、选择文件中的【拭除】命令中的【不显示】命令，拭除 不显示的内存中的文件，单击【拭除】对话框中的【确定】

19、 按钮；、再次打开原文件。、【重定义】特征截面。注意删除过期和丢失的参照， 选取新的参照。新参照继 续下一页上一页、隐含特征：若想在显示被隐含的特征，可在模型树中 右击该隐含的特征，选择【恢复】命令。若模型树中 没有被隐含的特征，可在设置菜单中选择树过滤器 命令，再弹出的菜单中选中【隐含对象】。系统可再 次进入失败模式，可重新定义。、修剪隐含：将失败特征及其后面所有的特征进行隐含。 恢复后，可重新定义特征。、重定参照：可通过重定参照（可选择、可定义基准）解 决失败特征的重定义。可重新定义所有参照，也可重 新定义缺少的参照。 重定缺少参照继 续下一页上一页可替换、可相同参照重定所有参照3、修复模

20、型：、当前模型：对当前活动（失败的）模型进行操作。、备份模型：对备份模型进行操作。将它从活动窗口中 的当前模型，显示到一个单独窗口中。、特征：对失败特征重定义。继 续下一页上一页继 续下一页上一页4、模型播放器： 可通过工具菜单中的模型播放器选择要修改的特征，重新定义。例题：jieju-liti2.prt 继 续下一页上一页五、特征的复制与阵列: 在零件设计过程中，一个复杂的零件模型中往往存在相同或相似的特征，可用特征的复制和阵列创建来完成。复制命令一次只能生成一个特征（或特征组）；阵列命令一次可以生成多个特征（或特征组）。、特征的复制（Copy）： 通过指定新的参考将若干个特征复制到一个新的

21、位置，从而产生一个形状与原始样本特征相似的新特征。若干个特征：一次可以复制单个特征、局部组或数个特征。1、特征复制的概念：继 续下一页上一页一个：正确理解“一个”概念，复制结果的个数是一个。相似：复制的结果可以和原特征的外形尺寸相同， 也可以不同。2、复制操作及选项：操作：选择【编辑】【特征操作】【复制】 、特征复制方式：新参考、相同 参考、镜像、移动。、特征的选择方式：选取、所有 特征、不同模型、 不同版本、自继承。、特征复制的类型（特征关联方式）： 独立、从属。、特征复制（放置）的方式：新参考：利用新选取的参考来替代父特征中原有的参考，来复制出子特征。其特点：可在不同的平面上产生复制特征。

22、相同参考：子、父特征的参考相同，通过改变参考尺寸进行特征复制。其特点：可快速产生相同方向的复制特征。镜像：通过指定镜像平面来镜像父特征，产生子特征。其特点：必须指定镜像平面，且子、父特征的形状、大小完全一样。移动：通过平移或旋转父特征来复制出子特征。其中：平移特征时，需指定平移的方向和距离；旋转特征时，需指定旋转的方向和角度。继 续下一页上一页例题：fuzhi-liti1.prt 继 续下一页上一页继 续下一页上一页、特征的选择方式：、选取：选取要复制的特征。可多选。、所有：选取零件模型中的所有特征 进行复制操作。、不同模型：在另外一个模型中选取 特征进行复制操作。、不同版本：在当前零件模型的

23、不同 版本中选取特征进行复制。、自继承：选取被复制特征中的继承 特征进行复制操作。继 续下一页上一页、特征复制的类型：、独立型：子、父特征相互独立，对父特征的修改不会影响子特征；反之亦然。例题：fuzhi-liti1.prt 独立型从属型、从属型：子、父特征是相关的，对父特征的修改将使子特征同时改变；反之亦然。3、特征复制的创建过程：选择【编辑】【特征操作】【复制】-继 续下一页上一页、相同参考：、选取需复制的特征选取特征并确定后，弹出：、选取可变尺寸然后即可为每个可变尺寸输入新值。、在对话框中，单击【确定】即可。 在菜单中选取可变尺寸，使相应的尺寸前面 中出现“”，并单击【完成】。注：应用相

24、同参考可快速产生相同方向的复制特征。继 续下一页上一页、新参考：、选取需复制的特征：选取特征后，弹出“组元素”对话框和“组可变尺寸”菜单、选取可变尺寸： 在“组可变尺寸”菜单中选取可变尺寸，使相应的尺寸前面出现“”，并单击【完成】 。然后即可为每个可变尺寸输入新值。 如果不需改变特征的尺寸，单击【完成】后，可直接弹出“参考”菜单。、替换参考：替换：以新的参考替换原有的参考。相同：使用原有的参考。继 续下一页上一页跳过：跳过当前参考，以后再定义。参照信息：提供解释放置参照的信息。完成替换后，弹出“组放置”对话框：重定义：返回命令开始，重新定义各元素。显示结果：用于显示组的几何形状。信息：出现信息

25、窗口，显示当前复制特征的信息。、在菜单和对话框中，均单击【确定】即可。、镜像复制：、选取需复制的特征选取特征后，弹出“设置平面”菜单：平面：选择现有的实体平面或基准平面 作为镜像对称面。注意特征的镜像与“编辑”中的零件镜像的区别。继 续下一页上一页产生基准：临时建立一基准平面作为镜像对称面。放弃平面：放弃镜像复制操作。、指定镜像对称面后，在菜单中单击【确定】 。、移动复制：、选取需复制的特征选取特征后，弹出“移动特征”菜单选择“平移”或“旋转”后，出现“选取方向”菜单。、指定方向后，还需输入平移的距离或者旋转的角度。、在菜单中，选择【完成移动】。注：使用“复制”、“粘贴”（Paste）、“选择

26、性粘贴”工具 进行复制。注意选择性粘贴的应用。继 续下一页上一页、特征的阵列（Pattern）： 将零件模型中的某一特征作为父特征，使其按一定方式产生出若干与之相似的子特征的操作方法和过程。1、特征阵列的概念：继 续下一页上一页注：一般一次只能选取一个特征进行阵列，如果 要同时阵列多个特征，应预先把这些特征组成一个“组” （Group）。方法是同时选中右击选择“组”命令即可。直线型阵列：按照距离尺寸的增量以直线方式进行的阵列；旋转型阵列：按照角度尺寸的增量以圆周方式进行的阵列。2、特征阵列的分类：相同：子、父特征的尺寸大小、放置平面必须完 全相同，各特征之间不可相交；可变：子、父特征的尺寸大小

27、、放置平面可以不 同，但各个特征之间不可相交；一般：子、父特征的尺寸大小、放置平面可以不 同，并各个特征之间可以相交。3、子特征与父特征的关系分类：继 续下一页上一页子特征与父特征的关系分类：阵列前相同型阵列可变型阵列一般型阵列注：系统对“一般”特征不做什么要求。建议优先选用“一般”。 在选取“一般”后，若想创建特征尺寸变化的阵列，可选择要 变化的尺寸作为引导尺寸，并指定增量值。继 续下一页上一页4、特征阵列的操作方法：、选取需阵列的特征，在主菜单中单击【编辑】 【阵列】 、在模型树中选取需阵列的特征，并击右键，在弹出的快捷菜单中选取【阵列】 选项。三种方法的结果，均出现特征阵列操控面板。、选

28、取需阵列的特征，在工具条上单击5、特征阵列操控面板的设置：、特征阵列的方式：继 续下一页上一页、尺寸：通过选取特征的参考尺寸，并设置其尺寸增量和阵列的数量来创建阵列特征。、方向：通过选取阵列方向，并设置沿此方向阵列的偏距和数量来创建阵列特征。、轴：以所选轴线为中心进行圆周阵列。、填充：用阵列成员来填充一草绘区域。、表：使用阵列表并为每一个阵列实例指定尺寸来控制阵列。、参照：参照现有阵列来创建阵列。注：一个特征只能阵列一次。继 续下一页上一页阵列尺寸的设置：、尺寸：通过选取特征的参考尺寸， 并设置其尺寸增量和阵列的数量来创建阵列特征。选择沿第一方向需变化的参考尺寸（及尺寸增量），可选择多个参考尺寸（按下Ctrl键）。选择沿第二方向需变化的参考尺寸（及尺寸增量）（此方向也可不设置）注意阵