镀膜营销精英知识培训

1、精巧特镀二厂镀膜营销精英知识培训产品运用 用于LCD或手机上的显示玻璃，用溅射方法 在玻璃上镀ITO(Indium-Tin Oxide)等材质 的单层或多层薄膜的产品单层：TN/STN ITO、PDP ITO多层：触摸屏、PDP-Filter、P-TV Mirror，用于TFT的Cr镀膜 ARAS Film运用范围 产品的运用 ITO 4.5产品构造 ITO 10产品构造手机行业电脑行业数码行业光学镜头运用领域 ITO 盖板产品构造 多样化印刷盖板效果珠光效果黑色效果七寸面板印刷白色效果 ITO 盖板产品运用镀膜原理 镀膜分类 镀膜分类 镀膜分类比较 堆积方法 - 物理堆积 (Physical

2、 Vapor Deposition, PVD) - 化学堆积 (Chemical Vapor Deposition, CVD) 在堆积的过程中构成新的化合物 什么是溅射？ 高能粒子撞击固体外表时，固体外表的原子与撞击粒子弹性或者非弹性冲突后，固体外表的组成原子从外表跳出的过程把靶材阴极分裂成原子，然后将原子堆积在玻璃面上靶材阴极基片玻璃 薄膜堆积(溅射法) 首先把堆积物质转换成气体，换句话说利用加速的离子冲突，使根底物体从靶材中跳出的过程。 为了把溅射气体(Ar：惰性气体，与内部物质间的化学反响最少，离子质量比较适宜转换成加速粒子，需求利用辉光放电构成等离子体，把Ar气体离子化并在电场作用下加

3、速成Ar+轰击靶材，使靶材的粒子溢出。 为了构成等离子体，先要构成辉光(Glow)放电。 辉光放电：指电子密度为108-1012/、电子能为1-30eV左右的低温等离子 体在继续的电流作用下产生发光的景象。 进展过程 什么叫等离子体? - 等离子体(等离子态、电浆、英文：Plasma：是一种电离的气体，由于存在电 离出来的自在电子和带电离子，具有很高的电导率，与电磁场存在极强的耦协作用。等离子态在宇宙中广泛存在，常被看作物质的第四态 - 辉光放电生成及维持等离子体辉光放电是低气压下的气体放电 等离子体磁铁的陈列方向为NS N S N S极，构成左右对称的靶材耗费，但根据磁铁陈列及磁极之间的宽度

4、，靶材耗费的宽度也不同 靶材上安装磁铁是为了使靶材周围构成磁场来约束电子，并利用电子的密集化 来添加Ar气体的离子化。可以提高溅射堆积速度，而且把电子约束在靶材周围， 因此减少2次电子对基板的打入，导致的不用要的加热及杂质混合 跳出的靶材粒子堆积在基板玻璃上就构成我们需求的薄膜 真空泵 电源Gas 溅射堆积要堆积的物质叫靶材，在真空室里注入Ar等惰性气体后，在靶材上施加负电压，Ar气体体被激活构成等离子体。等离子体中的Ar+离子利用电引力挪动到阴极方向，这时靶材外表原子会跳出并堆积在玻璃基板上。这样的过程，经过很多离子反复发生，叫溅射堆积。 溅射堆积 各式各样的膜系金属(NB, SIAL,CU

5、)半导体(ITO)绝缘体+ 半导体(TiN, SiO2)纯绝缘体(光纤, Tio2, SiO2) 各式靶材各种基片完好的溅射工艺ITO镀膜玻璃的定义- ITO是Indium Tin Oxide的缩写，是In2O3-SnO2系列化合物的一种。其中I表示 In2O3，T表示SnO2,普通Sn即Tin)的含量约为10%， 用溅射 的方法把材 质镀在玻璃板上，并运用在显示器件上的玻璃叫ITO镀膜玻璃。1) 特性- 透光率良好，电阻系数低。- 导电性及蚀刻性良好。- 以透明导电性薄膜及容易轻量化而扩展运用范围。- 可以构成超薄膜且再现性突出，所以可以镀膜的物体很多。 2) ITO镀膜玻璃的构造 ITO

6、镀膜的了解具有导电性的材质：1) 金 属：经过自在电子的挪动具有导电性。2) 半导体：电子或者孔穴持有部分导电性。3) 绝缘体：满带的电子持有导电性，但几乎没有电子的挪动，所以不导电。ITO具有导电性的缘由 ITO是 In2O3 被 SnO2 置换，好像下面反响式。 根据上面的反响式实践起导电作用的是Sn和In置换过程中提供的电子。但是从 Sn 跳出来的电子不是在传导带上，而是在禁带上，所以在导电方面几乎没有做奉献，因此 ITO 物质不能导电。但是，ITO实践上按照下面的反响式进展导电。 按照上面的反响式时，一个原子的2个氧电子处于传导带可以导电。即，有氧离子空洞vacancyITO才可以导电

7、。(vacancy：是指1个到250个左右的原子跃居的空间；反面void是指数十万个的原子跃居的空间。)，所以ITO可以称为n-型半导体。因此化学实际上ITO不能导电，实践导电的是氧离子略微缺乏的非化学实际的ITO。 ITO 导电缘由 镀SIO2膜的必要性 ITO玻璃的原板玻璃是廉价的碱性玻璃，玻璃内含有3wt%的 Na2O成分。 玻璃中的钠离子挪动到外表碰到空气后被大气中的水分引起Na+的涌出。 涌出的Na+和水分中的OH+及大气中CO2进展复合化学反响，导致玻璃模糊。 Na+进入ITO膜内跟ITO膜中的氧气进展反响，导致电阻系数上升及产生其 他不良影响。 .为了防止Na+的涌出在玻璃基板和

8、ITO薄膜之间镀一层SIO2膜(200-300A) 基板成份 什么是 RF 溅射？ 运用绝缘体电极，利用交流电源，周期性施加正负电压在靶材外表不累计离子和电子的情况下，维持辉光放电的方法。.反面发生异物缘由 RF电源周期性变化正负电压的同时，电子的流动要流畅，而且以一定的形状存在，但部分部件受污染后发生电阻差，所以电子会集中在一同，这样会发生电击景象并粘贴在部件上而构成污染源，当该污染物粘贴到玻璃上时，就构成了异物缺陷。.妨碍电子挪动的要素 - 阴极绝缘 - 框架绝缘 - 匹配 - 部件污染 RF溅射 氧化物或者绝缘体作为靶材时DC溅射无法进展，但RF溅射可以处理这种问题，特别是氩气压力低的时

9、候也可以维持等离子体Plasma。 RF电源除了对金属材质进展溅射外，也可以对非金属、绝缘体、氧化物等材质进展溅射，主要运用13.56的高频电源。DC 溅射RF 溅射 靶材材质导体导体/绝缘体/非金属 辉光放电的Ar压力10-15mTorr2-5mTorr成膜速度速度高，对Ar不敏感速度低，对Ar敏感在线方式溅射堆积 RF溅射特性基板引见常规产品厚度：1.1mm，0.7mm，0.55mm， 0.5mm 0.4mm，0.3mm常规产品尺寸：14*14，14*16，14*17 300*320mm，300*350mm，300*360mm 370*400mm，370*470mm，400*500mm 基

10、板分类碱 玻 璃 钠钙玻璃，用于TN及STN LCD。板硝子NSG，旭硝子Asahi， 中央硝子Central Glass，硼硅玻璃德国肖特 Schott铝硅玻璃无碱硅酸铝玻璃，主要用于TFT- LCD。美国康宁Corning ITO玻璃基板 ITO基板种类 基板成份白云石 基板成份作用 基板成份作用 基板消费道路Cover Lens 原片 基板成型技术对比 生产工艺项目浮法技术窄缝下拉法溢流法玻璃种类钠钙硅玻璃铝硅玻璃钠钙硅玻璃铝硅玻璃硼硅玻璃铝硅玻璃产能 T/D400-9005-205-20窑炉建筑所需空间大较小较小投资金额小中大建厂时间（月）18-2415-1815-18拉出方向水平垂直

11、向下垂直向下成型介质液态锡铂合金流孔漏板可供溢流的熔融帮浦成型原理锡液与玻璃液的密度差熔窑的拉引量，留孔开口大小和下拉速度玻璃液溢流量和下拉速度熔融方式天然气、重油、电辅助加热电加热、天然气电加热、天然气厚度范围（mm）0.3-25mm0.03-1.1mm0.4-2.5mm面积大小大面积中小面积中大面积后续加工程度一面需要处理两面都需要处理不需要处理代表厂家信义、浙玻、洛玻旭硝子电气硝子康宁、板硝子主要产品型号比重kg/m3厚度（mm）应变点C膨胀系数*10-7（30-380C)钢性康宁Eagle 20002.3700.667035.5AN-6352.77-63548电气硝子OA-102.51

12、1-65136.6中央硝子NA-352.50.765036.76930实测值-2.50.765032-377000国内超薄-2.5-500 基板性能对比 浮法流程 浮法流程 溢流法法流程 采用一长条型的熔融帮浦Fusion Pump，将熔融的玻璃膏保送到该熔融帮浦的中心，再利用溢流的方式，将两股向外溢流的玻璃膏于该帮浦的下方处再结合成超薄平板玻璃。 利用这种成型技术同样需求借重模具，因此熔融帮浦模具也面临因受机械应力变形、维持熔融帮浦程度度及如何将熔融玻璃膏稳定打入熔融帮浦中的问题。由于利用溢流熔融法的成型技术所作成的超平板玻璃，其厚度与玻璃外表的质量是取决于保送到熔融帮浦的玻璃膏量、稳定度、

13、程度度、帮浦的外表性质及玻璃的引出量。 熔融溢流技术可以产出具有双原始玻璃外表的超薄玻璃基材，相较于浮式法仅能产出的单原始玻璃外表及流孔下拉法无法产出原始玻璃外表，可免除研磨或抛光等后加工制程，同时在平面显示器制造过程中，也不需留意因同时具有原始及与液态锡有接触的不同玻璃外表，或和研磨介质有所接触而呵斥玻璃外表性质差别等 溢流法法流程流孔下引法制程每日能消费5 2 0公吨厚度0.0 3 1.1的超薄平板玻璃，因铂金属无法接受较高的机械应力，因此普通大多采用铂合金所制成的模具，不过因其在接受外力时流孔常会变形，导致厚度不均匀及外表平坦度无法符合规格需求为其缺陷。 该法系以低黏度的均质玻璃膏导入铂

14、合金所制成的流孔漏板 Slot Bushing 槽中，利用重力和下拉的力量及模具开孔的大小来控制玻璃之厚度，其中温度和流孔开孔大小共同决议玻璃产量，而流孔开孔大小和下引速度那么共同决议玻璃厚度，温度分布那么决议玻璃之翘曲，以流孔下引法技术拉制超薄平板玻璃如下图。 流孔下引法必需求在垂直的方向上进展退火，假设将其转向程度方向那么能够会添加玻璃外表与滚轮的接触及因程度保送所产生的翘曲，导致不良率大增。这样的顾虑使得熔炉的建造必需采用挑高的设计，同时必需准确的思索退火所需求的高度，使得工程的难度大幅添加，同时也反映在建厂本钱上。 窄缝下拉法流程 基板分类按基板类型分TNSTNSSTNTN原片只切割磨

15、边不抛光STN普通等级型抛光原片SSTN特殊等级型抛光原片高阻面电阻大于30/口 低阻面电阻30/口 触摸屏400 /口STN是Super Twisted Nematic的缩写TN-LCDTN= Twist Nematic 扭曲向列型扭曲角为90 TN -LCD特点构造简单、技术难度相对低本钱低90 TN基板玻璃运用STN-LCDSTN=Super Twist Nematic 超扭曲向列型扭曲角为180 270 STN -LCD特点扭曲角度的添加，使以下性能得到改善： 显示对比度提高 显示容量添加 视角变宽对电阻相当敏感，基片需求抛光高容量显示要求ITO的电阻低，膜要厚180 270黄绿方式、

16、蓝方式、灰方式 STN基板玻璃运用TFT-LCDTFT=Thin Film Transistor 薄膜晶体管每一个点阵都由薄膜晶体管来控制 TFT-LCD特点TFT的引入使产品的显示容量显著提高： 可以在VGA、XVGA等方式下任务 用于笔记本电脑的显示屏需求在玻璃基片上制造数量庞大的TFT多次镀膜和多次光刻消费工序很多，必需极严厉控制质量 TFT基板玻璃运用ITO玻璃简要消费工艺流程如下：TN型玻璃不需经此流程 消费流程 手机盖板引见盖板玻璃即维护玻璃，通常叫做cover lens，盖板玻璃作为触控器件的一个重要组成部件，其主要义务是：维护LCD、透光性能好、装饰触控器件外观等作用。其主要性

17、能有：极好的外表光洁度；极高的外表硬度和超强的抗划伤才干；较好的外表强度；准确地尺寸控制；具有几号的视觉效果；外表硬度高，耐划伤，透光度好。 手机盖板消费流程CNC强化抛光/LP丝印/镀膜清洗/检验 对玻璃产品外形、开槽、打孔加工工艺 对玻璃产品强化、外表应力加工对玻璃产品外表光洁度、平整度进展加工对玻璃产品油墨遮盖、LOGO印刷加工，镀膜 对玻璃产品进展清洁、检验断定良品出货任务出货 手机盖板常用玻璃引见ITO玻璃根本参数规格长宽厚度垂直度1.1mm0.2mm0.05mm0.10%0.7mm0.2mm0.05mm0.10%0.55mm0.2mm0.05mm0.10%0.50mm0.2mm0.

18、05mm0.10%0.4mm0.2mm0.05mm0.10%DL百分表垂直度=D/L*100% 取L=300mm为宜。 基片尺寸参数 基板标示角因供应商不同，切角位置及尺寸不同。大多数在右上角5:2比例无碱玻璃和DT玻璃 3:3或4:4比例 入厂检的目的 C1 = 角部正常倒角(mm) C2 = 角部标示倒角(mm)5.01.5c1c1研磨面浮法方向c1c2c50.5-2.00.5-2.00.5-2.02.01.5浮法方向识别角2*5mm一样角1.5*1.5mm 基板倒角代码尺寸要求C0.05 - 0.4mmR0.2 - 0.8mmP0.1 - 0.6mmCRPW0.05mmW0.4mm，45

19、角 W0.05mmW1.2mm 曲面半径 R50mmC型R型平整度可用h/1表示，意思为在长度为L的范围内，外表最高点与最低点的差值为hLh玻璃微观外表玻璃厚度特殊抛光（SSTN）(/20mm)普通抛光（STN）(/20mm)非抛光(TN)( /20mm)1.1mmRt400Rt500Rt15000.7mmRt600Rt800Rt20000.5/0.55mmRt800Rt1000Rt25000.4mmRt1000Rt1200Rt3000 基片平坦度参数 基片平坦度参数 基片平坦度参数LhITO膜面向上计算方法：Warp=h/L *100%玻璃厚度（mm）1.10.70.5/0.550.4翘曲度

20、（%）0.10%0.12%0.15%0.20%玻璃镀膜后不允许有S形变形。 基片翘曲度参数基板垂直度:用a/L表示(如图) 用来描画玻璃基板四条边相互垂直的程度La通常a/L0.1% 基片垂直度距边缘5mm以内的区域。国家规范中规定的是距边缘3mm以内的区域。国内几大主要LCD厂家如天马、信利的接纳规范都是5mm 基片有效运用面积 ITO层面电阻/膜厚/透过率 产品型号ITO膜厚透过率( T% )面电阻( /口)膜层反射色酸刻时间150180A30A88%100150 /30 秒100220A30A87%7090 /30 秒80250A50A87%6080 /40 秒60300A50A85%4

21、060 /60 秒50350A50A84%3750 /60 秒45400A50A83%3545 /60 秒40450A50A82%3040 /60 秒30700A75A81%2030 /80 秒25750A100A81%2025 白色100 秒20800A100A81%1520 亮白色100 秒171000A100A82%1216 黄色120 秒151150A100A83%1115深黄色120 秒101800A100A87%710 蓝色200 秒72000A150A82%67 青绿色250 秒52800A200A85%45 紫色300 秒 ITO根本参数ITO厚膜产品颜色表示图颜色： 淡黄色

22、黄色 浅红色 红色 紫红色 紫色 兰紫色 蓝色 青色 绿色 黄色 紫蓝色 红紫色膜厚A： 900 1100 1250 1300 1400 1500 1650 1850 2000 2200 2500 2800 3000面电阻ohm): 20 17 15 12 10 9.5 9 8 7.5 7 6 5 4.5透光率%： 80 82 86 87 88 88 87 85 80 78 82 85 83面电阻透光率膜厚(A)膜厚/电阻/透光率对应关系图透光率面电阻(ohm/口)90015002200300028004.591002500 ITO根本参数在波长为550nm的光波照射下，具有SI02阻档层玻璃

23、的透过率不小于80%，其主要取决于玻璃资料、ITO厚度和折射率 透过率定义：透过玻璃的光通量T2与入射光通量T1之比的百分率Tt=T2/T1X100% ITO透过率电阻:如图d为膜厚，I为电流，L1为膜厚在电流方向上的长度，L2为膜层在垂直电流方向的长度，为导电膜的体电阻率。和d可以以为是不变的定值，当L1=L2时，为正方形的膜层，无论方块大小如何，其电阻率为定值/ d，这就是方块电阻的定义，即R= / dL2L1dIR=L1/(dL2) ITO电阻 ITO膜层稳定性热稳定性： R /R300% 30010 ，加热30分钟自然冷却。B. 耐碱性：R /R110% 602 、10wt%的NaOH

24、中浸5分钟。C. 耐磨性：膜层无零落 用PE橡皮文具用施加1Kg的力磨擦ITO膜层外表100次。D. 粘附性：膜层无零落 将3M-610胶带贴于ITO上并排除空气，放置10秒后沿垂直方向快速拉 起。测算公式：R /R=实验后电阻 / 实验前电阻 ITO废品中铅、汞、镉、六价铬、多溴联苯PBB和多溴二苯醚PBDE六种有害物质的含量应符合欧盟RoHS指令要求。准确描画ITO产品的根本要素 基板类型：是TN还是STN，客户能否指定供应商。 电阻值： 电阻在15 /口及以下时，还要阐明膜层反 射色或提供上下极限色样。 玻璃尺寸：？ 包装方式：是垫纸还是隔条？木箱还是纸箱？ ITO产品根本要素ITO玻璃

25、异常LCD的影响基板中的钠离子发生渗透字肥基板的平整度较差排骨彩虹（肋条彩虹）基板的粗糙度较差涂膜的均匀性；点状彩虹面电阻不均蚀刻易发生断短路玻璃表面较脏内污,短断路ITO测射不均上下短路翘曲度差LCD生产中定位不准表面伤痕、异物、气泡LCD显示效果异常磨边倒角粗糙制程中易破损 ITO玻璃异常影响消费流程切磨大原片进料NG报告供应商处置进料检验切割OKOKNG调整切割尺寸调整磨边倒角尺寸磨边倒角OKNG过程检验废品抽检OKNG报废NG入库OK工艺抽检工艺抽检抛光报废领料NG表观检验抛光OKNGNG入库OK废品抽检平整度检验OK工艺抽检镀膜卸片OK入库OKNG包装OKNG过程检验OK镀膜清洗复检

26、装篮NG报废装架装片NG上片检查废品抽检调整工艺OKNG质量检查报废领料 ITO玻璃消费流程线制造商日期清洗镀膜清洗镀膜4#TEC (韩国)Leybold (德国)200319965#TEC (韩国)Comtecs (韩国)20012001 消费设备 -. 超声波清洗设备：2条线(4#、5#) -. 溅射式镀膜设备：2条线( 4#、5#) 清洗/镀膜流程玻璃枯燥枯燥槽玻璃漂洗洗涤槽玻璃清洗清洗剂槽清洗程序框架退火退火框架镀ITO膜ITO 镀膜框架镀SiO2膜SiO2 镀膜框架预热预热镀膜程序 镀膜二厂设备现状清洗定义及目的 清洗工序在各种显示器件制造工程中是非常重要的部分之一。特别是玻璃基板镀

27、膜之前的清洗质量与镀膜后的废质量量有着非常重要的相关性，所以在镀膜之前对玻璃基板要进展高清洁度的清洗。微粒的存在会引起ITO薄膜的断线；有机物的残留也会降低膜的粘贴度。微粒的大小是根据LCD的格栅宽度范围而变化，电阻越低的STN产品，需求对微粒的管理越严厉 什么是清洗？ 清洗的目的？ 清洗是指去除工件外表上液体和固体的污染物，使工件外表到达一定的干净程度。清洗过程是清洗介质、污染物、工件外表三者之间的相互作用，是一种复杂的物理、化学作用的过程。清洗不仅与污染物的性质、种类、形状以及粘附的程度有关，与清洗介质的理化性质、清洗性能、工件的材质、外表形状有关，还与清洗的条件如温度、压力以及附加的超声

28、振动、机械外力等要素有关。因此，选择科学合理的清洗工艺，必需进展工艺分析清洗的10大种类浸洗清洗：在清洗槽中参与清洗液，将被洗物浸渍其中的清洗方式。由于仅靠清洗液的化学作用清洗，所以洗涤才干弱，需求时间长。循环清洗液。喷气：在清洗槽内安装喷气管多个吸管，用汽体将清洗液放射到被洗物上的清洗方式。喷流清洗：从槽的侧面将清洗液在液相中喷出，靠轻的搅拌力物理作用促进清洗。洗涤才干比浸渍清洗强。刷洗：在清洗腔室安装刷子，工件有专门的支承或夹具，在清洗剂浸渍或淋润的同时，主要靠刷子与工件的机械磨擦力进展清洗，作为初级清洗效果直接。超声波清洗：在清洗槽内安装超声波振子，产生超声波能量数千个大气压的冲击波，将

29、被洗物全部清洗的方式。喷淋清洗：在清洗槽内安装喷淋管，在气相中将清洗液放射到被清洗物上，压力缺乏2/c减压清洗：在清洗槽内产生负压，由于减压，洗涤剂能较好地浸透到被洗物的缝隙之间。假设和超声波作用，清洗效果会大大加强。喷雾清洗：安装喷雾管，在气相中将洗涤喷附到被清洗物上的清洗方式。压力2-20/c旋转筒清洗：在槽内安装旋转安装，同时旋转筒体搅拌被清洗物。多与喷流、超声波洗涤组合运用。抛动清洗：在槽内安装抛动机构，装入被洗物，使之在洗涤槽内上下运动，多与喷流、超声波洗涤组合运用。术语定义-1 R/O 水 -.指利用逆浸透法的膜分别方法制造的水。 -.用于一次清洗，运用量最多。 逆浸透法：指利用半透膜和静水压从盐溶液里分别出像水一样的溶剂。溶剂的流向是 向着浓度高的方向流动，所以溶剂经过半透膜向盐溶液挪动，当系统到达平行时的静 水压叫做浸透压。 DI 水 -. 去离子水，除去离子成分的用水。 -. 清洗工序的必需用水，对于去除异物的附着、玻璃的腐蚀、洗剂成分的活性剂起着很 好的溶解作用。 UDI 水 -. 超纯水，比DI水更高等级的超纯水。 超声波 - 超出听觉范围的频率，约1620，由于发生共振而引起清洗的要素。 超声波声压 - 可测定，利用超声波丈量仪丈量水槽内各部分的声压，可把水中超声波的实践 值显示为电压数值。 超声波振