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文档简介

自动镀膜控制装置使用说明书

ACS

(Gener)

OptorunCo.,Ltd.Japan

350-0801

10-1TakenoKawagoeSaitama-Ken

目录

TOC\o"1-3"\h\z

开始…

1

术语

2

改版履历

3

第1章 基本操作

4

1.1. 计算机及系统的起动

4

1.1.1. 计算机的起动

4

1.1.2. 系统的起动

4

1.2. 系统ACS及计算机的关闭

4

1.2.1. 系统的关闭

4

1.2.2. 计算机的关闭

4

1.3. 主操作画面

5

1.3.1. 文件选择部分

6

1.3.2. 设定部分

7

1.3.3. 命令项目部分

7

1.3.4. 电子枪控制部分

8

1.3.5. 维护部分

8

1.3.6. 确认部分

9

1.4. ACS文件夹构造

10

第2章 工艺文件

11

2.1. 预熔工艺文件

11

2.1.1. 文件部分

11

2.1.2. 参数部分动作条件

12

2.1.3. 参数EB放射电流控制

12

2.1.4. 参数BeamRotation

13

2.1.5. 参数CUP指定

13

2.1.6. 命令部分

14

2.2. 成膜参数文件

14

2.2.1. 命令部分

15

2.2.2. Barch参数

15

2.2.3. 各层参数

16

2.2.4. Material(Hi)、Material(Lo)

18

2.2.5. IBS

23

2.3.参照Log文件时的操作

23

第3章 材料预熔

24

3.1.参数

25

3.2.处理状态

25

3.3.EB微调整

25

3.4.Cup状态

26

第4章 成膜

26

4.1. 成膜处理流程

26

4.2. GP-IB连接器的接续试验

26

4.3.复原动作的选择

27

4.4.确认监控片位置

28

4.5.确认TOGGLESWITCH

28

4.6.Filamentanneal

29

4.7.确认成膜开始条件

29

4.8.离子枪暖机

30

4.9.单色仪的初期化

30

4.10.设定离子枪参数

31

4.11.指定层分的成膜

32

4.9.1.表示层处理状态

33

4.9.2.光量处理关联

33

4.9.3.各层参数

34

4.9.4.表示各图表

35

4.9.5.成膜等的设定变更部分

36

第5章监控片测试

40

第6章水晶传感器检测

41

第7章维护

42

7.1.维护参数的种类

42

7.2.维护时期的管理

42

7.3.进展条的设定方法

42

第8章异常处理

43

8.1.异常发生时的操作

43

8.2.异常的种类及原因

43

8.3.异常终了时的操作

44

开始…

本使用说明书讲述了使用自动镀膜程序(以后称为ACS)时必要的操作方法及使用时的注意事项。

本书的使用对象

使用ACS进行镀膜的用户

管理ACS镀膜数据的管理人

本使用说明书记载了使用ACS时的必要情报。

使用前请认真读完本使用说明书并充分理解。读完该书后也请好好保管本书,随时放在手边以便使用。

术语

本使用说明书中用词的含义,参看下解。

材料预熔

蒸镀高折射率材料前作准备工作,称为材料预熔。

EB表示电子枪

GL表示离子枪

ACS本说明书所说明的软件。

材料预熔数据文件

是指ACS在实行材料预熔时使用的参数文件,为Excel格式的文件。

成膜工艺数据文件

ACS进行自动镀膜时使用的镀膜参数文件,为Excel格式的文件。

印刷记录文件

每层的开始,结束,极值时的状态记录保存文件。

图表记录文件

每秒的状态记录保存文件。

改版履历

改版号

改版日

改版内容

Rev.1.0

2006年9月

初版

基本操作

本章描述了系统使用时必要的基本操作方法。

计算机及系统的起动

计算机的起动

要使用系统,必须先起动计算机。

操作方法

请按下CRT及其计算机的电源开关。

电源开关打开后,请根据画面指示进行操作。

系统的起动

计算机起动并登录系统后,就能起动ACS了。

操作方法

如图1的D-①所示双击桌面的ACS快捷图标能起动ACS。

系统ACS及计算机的关闭

系统的关闭

关闭计算机前,必须先将系统ACS关闭。

操作方法

在主操作画面上,点击退出处。系统ACS关闭。

计算机的关闭

系统ACS关闭后,可关闭计算机。

操作方法

从桌面画面表示的开始菜单的项目中,选择关机项。之后请根据画面指示进行操作。

此外,ACS系统起动中,装置如感知到停电时,会自动关闭系统后关闭计算机。

主操作画面

系统起动后,出现以下主操作画面。

主操作画面分为以下几个领域。

文件选择部分:进行预溶和成膜时选择文件的部分。

设定部分:进行预溶和成膜动作设定。

命令项目部分:进行预溶和成膜动作开始及ACS关闭。

电子枪:调整控制电子枪。

维修部分:起动各机械的使用时间表示和使用时间抹除画面。

检查部分:起动进行水晶和监控玻璃检查的画面。

文件选择部分

指定成膜的膜层号

表示选择预熔的文件名

表示选择成膜的文件名

选择预熔文件

取消选择的预熔文件

选择成膜文件

取消选择的成膜文件

选择文件

点击“预溶““成膜“的选择项,出现以下画面。

设定部分

进行ACS动作相关设定。

指定离子枪的电子束暖机时间

实行电子枪灯丝退火时请打勾,未打勾时,不实行电子枪退火..

离子枪使用时请打勾

省略锁相放大初始化时请打勾

省略分光器时请打勾

设定FilamentAnel时间

要记录保存请打勾

成膜结束时关闭离子枪时,请打勾.

成膜结束时要保持真空状态,未打勾时候,进行放气处理.

用试验模式(EB的放射电流为0)时请打勾.

命令项目部分

ACS结束。

预熔成膜开始。

可输入作业者名。

可输入注释。

“Lot号”,“作业者名“,“注释“将保存在印刷Log文件中。指定“Lot号”时,这个“Lot号“为Log文件名。没有指定“Lot号”时,工艺名为Log文件名。

电子枪控制部分

在主操作画面的“电子枪“部分进行电子枪控制。

Emission的SV是设定值,PV表示实际的输出值。

其他,可以扫描,变更位置数值,确认EB的动作状态。

维护部分

在维修部分可以确认各机器的使用时间。使用时间为红色的地方是使用时间超过允许值的意思。

使用时间的初期化,允许值的设定可点击维修部分的Set按键,出现以下画面。

确认部分

表示监控玻璃测试画面(第5章参照)

表示水晶传感器确认画面(第6章参照)

确认部分分有监控玻璃的试验画面,水晶传感器确认画面、设定是否使用Recorder。

ACS文件夹构造

图1文件夹构造

ACS文件夹:ACS的文件夹。通常在CDrive下。

SYS文件夹:保存运作ACS的环境文件。

LOG文件夹:保存LOG动作文件夹。有以下的文件夹存在。

Batch:可以了解每个Batch的动作概要。

Err:可以记录每个Batch发生的报警。

Melting:保存自动预熔的动作Log。

Process:保存自动成膜的动作Log文件夹。有以下的文件夹存在。

Graph文件夹:EB挡板从打开到关闭间每秒的Log。

PrintOUT:每层的开始,结束及极值时的Log。

DATA文件夹:预熔用及成膜工艺文件的文件夹。有以下的文件夹存在。

Melting:保存CUP用预溶工艺文件。

Process:保存成膜工艺文件。

工艺文件

ACS系统使用预熔工艺文件和成膜工艺文件。

预熔工艺文件

预熔参数文件分为5部分。

文件部分:Name的地方指定的名称为文件名。

参数指定部分:指定各参数。

预溶指定部分:在每个坩埚指定进行预溶的CUP。Hearth1为环状坩埚,Hearth1的指定无效。

备考栏:表示输入范围等。

命令:进行保存,检查等。

文件部分

评语栏

文件名

图3预熔参数:文件部分

参数部分动作条件

指定预熔开始和AC的允许范围等。

指定压力上限

指定EB的允许范围

指定开始压力

指定实行时间的允许范围.

参数EB放射电流控制

EB放射电流控制部分有以下参数。

RT:指定EB反射电流到达HP指定的放射电流的时间。

HT:指定HP指定的放射电流值保持时间。

HP:指定EB放射值。

XS:指定X扫描值。

YS:指定Y扫描值。

BR:有无使用BeamRotation,及指定种类号。(off是没有Rotation的意思)

这些参数最大可指定到7个阶段。另外,有10种Pattern可以设定。如XS,YS使用BeamRotation

时,在此指定的数值无效。使用在BeamRotation处指定的扫描值。

Copy按钮表示的Pattern复印到储存器中。

Paste按钮将Copy的Pattern粘贴到现在表示的Pattern号处。

参数BeamRotation

BeamRotationEB的Beam最大可在12个位置循环照射。可以指定最大6Pattern。

各参数表示的意思。

StayTime:Beam在位置停留时间。

Locationnumber:指定Beam位置从1号到几号循环照射。

Xp:指定X方向位置。

Yp:指定Y方向位置。

Xs:指定X扫描。

Ys:指定X扫描。

CircleLocation

点击此处以在Radius处指定的半径让Locationnumber处指定位置为正多角形自动设定Xp,Yp。

参数CUP指定

命令部分

成膜参数文件

成膜参数文件分为4个部分

命令部分:进行文件保存。

注意:文件保存必须使用按钮。

Sheet选择部分:可以交换4个Sheet。

Process,Material(Hi),Material(Lo),IBS。

各层的参数:指定每层的参数。

Batch参数:指定成膜开始压等Batch全体相关的参数。

命令部分

Barch参数

各层参数

Material(Hi)、Material(Lo)

Step6

BeamRotation最大可以指定到8。使用BeamRotation时扫描值为BeamRotation的扫描值。

阻蒸加热在使用BeamRotation时无相关参数。

IBS

2.3.参照Log文件时的操作

材料预熔以及镀膜可以参照使用记录下来的各种Log文件的内容,备忘录等的程序。

操作方法

在备忘录等的文本编辑程序处打开欲参照的文件。

文件的内容被显示。

再者,各Log文件生成的路径如下

Batch

C:\ACS\Log\Batch

预熔

C:\ACS\Log\Melting

成膜

C:\ACS\Log\Process\Printout

C:\ACS\Log\Process\Graph

错误

C:\ACS\Log\ERR

材料预熔

在主操作画面选择“预溶文件”的状态,点击开始按钮,开始进行预溶。

上图为预熔实行画面。

预溶实行画面由5个领域构成。

参数:表示在溶文件中指定的参数。

装置处理:表示现在的处理状态。

图表:用图表表示真空度和EB放射电流。

EB微调整:表示EB的设定变更和现在值。

Cup状态:用Cup号可确认该Cup的预溶实施状态。

3.1.参数

表示预熔文件指定的真空度上限值。

表示预熔文件指定的开始真空度。

表示剩余的要熔药的CUP数

表示预熔文件的名称

3.2.处理状态

现在的真空度表示

预熔中点灯为绿色

确认真空度中点灯为绿色。

坩埚旋转中点灯为绿色。

超过现在真空度上限值是点灯为绿色。

表示预熔处理经过时间

3.3.EB微调整

表示现在的EB设定值。上下按钮可以暂时变更设定,从处理阶段进入下一个阶段时,Emi.和扫描(X-S,Y-S)的设定为预溶文件的设定值。

在此变更过X-P、Y-P的设定在预溶处理结束后,返回原来的设定值。

3.4.Cup状态

Cup的预溶状态或在预溶中的Cup号。

用颜色表示Cup的状态。

黄:预溶结束的Cup。

红:等待预溶的Cup。

蓝:不进行预溶的Cup。

成膜

在主操作画面选择“成膜文件”的状态,点击开始按钮,开始进行成膜。“预熔文件”也一起选择时,先进行预溶。

成膜处理流程

以下为成膜处理顺序。

GP-IB连接器的接续试验

复原动作的选择

确认监控玻璃位置

确认TOGGLESWITCH

Filamentanneal(省略可能)

确认成膜开始条件

离子枪暖机(使用离子枪时)

单色仪,LOCK-IN放大器的初期化(省略可能)

离子枪设定(使用离子枪时)

指定层分的成膜

GP-IB连接器的接续试验

实行GP-IB连接器的接续试验。

ACS系统用GP-IB连接以下的机器。

HOM2-N(分光器)

HOM2-D(Lock-InAmp)

试验开始时出现以下的窗口。机器没有问题进入下一个处理阶段。

4.3.复原动作的选择

从下面3个机能中选择需要机能。

全新的蒸镀

成膜从1层开始进行时,选择此机能。

从指定层开始蒸镀

接前次的成膜继续对指定层从新进行成膜时指定此处。

前次蒸镀继续

接前次的成膜继续对指定层进行成膜时指定此处。

注:在多次停止层复原机能有可能不能正常动作。此时有必要确认此层是否正常成膜完了。

4.4.确认监控片位置

表示确认监控片位置的窗口。

要检查监控片时,设定开始号码和结束号码,请按Test按钮。在「相对位置指定」处打勾,指定的监控片在相对位置进行。确认设定,按Continue>>按钮。

4.5.确认TOGGLESWITCH

确认TOGGLESWITCH的窗口。机器没有问题进入下一个处理阶段。

工件盘旋转开关用PLC的触屏面的TOGGLESWITCH自动进行工件盘旋转。电子枪的各个电子枪控制INT-EXT

SWITCH为EXT。

4.6.Filamentanneal

在主操作画面的设定“EBFilamentanneal”处打勾,Filamentanneal实行(如下图)。

注意此处理真空度在3.98E-2Pa以下才可进行。PLC排气动作手动时也不能进行此处理。排气选择自动模式。

4.7.确认成膜开始条件

确认在“成膜文件”处指定的成膜开始条件。

只有在试验模式动作及复原时,显示“Skip“按钮。

条件成立后,自动进入下一个处理阶段。

4.8.离子枪暖机

实行离子枪暖机处理。

此处理在主画面上设定离子枪中「离子枪使用」项打勾时,才有效。否则不能实行。

离子源的暖机和电子束的暖机结束后自动进入下一个处理阶段。处理过程中也可使用

跳过

强制跳过按钮进入下一个处理阶段。

4.9.单色仪的初期化

实行单色仪的初期化处理。此处理在主操作画面设定处“分光器初期化省略”未打勾时可实行。

4.10.设定离子枪参数

设定离子枪参数。

此处理在主画面上设定离子枪中「离子枪使用」项打勾时,才有效。否则不能实行。

到达指定参数时进入下一阶段。

4.11.指定层分的成膜

成膜画面分为以下部分。

表示层处理状态

光量值处理关联

各层的参数

表示各图表

EB等的设定变更部分

接续机器的状态表示部

动作按钮部分

4.9.1.表示层处理状态

4.9.2.光量处理关联

表示现在的光量值

表示此层检测出极值数。

双击此位置可表示在此层检测出的极值一览表。

控制方式选择“比例”时,表示比例值。

表示预定停止的光量值

表示此层预定的极值数

4.9.3.各层参数

表示监控波长

表示初期光量值

表示初期光量变化方向

表示此层的控制方式,双击此处可以暂时切换到

“ManualStop”

表示material的名称。

表示水晶膜厚控制时的膜厚。

表示成膜最大时间。

表示现在的膜厚。

表示设定比率。

表示成膜速度。

表示膜厚的上限值和下限值。

4.9.4.表示各图表

纵轴光量变化显示自动变更。

层终了预定时间

纵轴开始光量指定。按下OffSet更改设定

纵轴比例指定。按下GainSet更改设定

表示1层的光量变化。

使图左右移动

表示需要的层号,按Enter表示。

表示现在成膜中的层。

表示此次成膜全层的光量变化。

真空度,EB放射电流,成膜比率

用图表表示各层开始真空度和放射电流,Rate为挡板开后的图表。

4.9.5.成膜等的设定变更部分

成膜

点击“蒸镀”处,出现下图。

频率表示现在的频率。

点击水晶换下一片按钮,交换下一片水晶。

“排气锁定”打勾后,成膜结束后保持排气状态。未打勾时,成膜结束后进行破真空处理。

在此页也可进行APC/MFC设定变更。

电子枪

点击“电子枪”处,出现下图。

EMI:变更放射电流值。

XP:变更X位置。

XS:变更X扫描值。

YP:表更Y位置。

YS:变更Y扫描值。

离子枪

点击“离子枪”,出现下图。

图中Setting标签之下的值为各离子枪参数的设定值。与此相邻的Min和Max标签之下的值为ACS所设定的相关值的最大最小范围。ACS会监视相关的参数,如果超过此处表示的范围,则意味着IBS工作状态不正常,会由ACS给出警报。

被监视的参数有BeamCurrent,BeamVoltage和EmissionCurrent。

成膜速度

点击“成膜速度”,出现下图。

可变更成膜的设定比率。

点击监视开始设定按钮,从EB挡板开开始在指定的秒数后监视开始。

比率变化量监视机能使用时在此可指定其动作。

光学

点击光学,表示下图。

ACS系统,从光学膜厚计输出得光量值数据处理进行“Optical”和“LightRatioPeak”控制。

为了监视这些控制方法是否正确进行控制,在这页上表示以下监视项目。

光量逆行

光量值的变化方向为ACS所指方向时呈绿色,反之呈红色。

光量变化过大

光量值的变化量比指定值多时呈红色。

光量变化小

光量值变化极少时呈红色。

极值数

极值的数比设定值多时呈红色。

过载

光量太强时呈红色。

最终光量未到达

此错误为以“LightRatioPeak”方式控制时,在到达指定的光量值前就检出极值时发生。此错误发生时,ACS自动进入下一层。

发生以上的报警时,有2个方法可指定ACS的动作。

蜂鸣器响

出现错误时报警器蜂鸣报警。(成膜部中断)

蒸镀停止

指定此处时,中断成膜。

连接器的状态表示部

RC,UZ是在“蒸镀工艺文件”中指定的不感带和逆反的设定值。之下表示为HOM2-D的感度及HOM2-N的前置扩大器的设定值。

“薄膜指数”表示现在膜的薄膜指数。

连续器的状态表示

分光器设定结束时点灯。

与PLC通信中点灯

监控片设定结束后点灯。

与XTC2通信中点灯

APC的流量值

APC的设定值

现在的真空度

分光器的滤波器位置

坩埚的CUP位置

监控片的设定位置

监控片的实际位置

水晶位置

电子枪的设定值

电子枪预备加热时点灯

坩埚设定结束时点灯

工件盘旋转设定结束后点灯

电子枪准备结束后点灯

动作按钮部

挡板闭点击按钮结束现在的层,进入下一层。

点击

停止按钮,成膜暂时停止,表示报警画面。操作者选择继续进行此层成膜或进入下一层。

第5章监控片测试

点击主操作画面上监控片测试表示以下画面。

Check按钮开始测试。测试结束后,未使用部分呈白色,使用部分呈黄色。

为了使测试正确进行,有必要事先设定作为基础的监控片号码及进行测试波长。

设定测试条件可在主画面上一起按下Ctrl、Alt、Shift3个键同时点击Check按钮,表示Dialogbox。

在此可设定参数。

第6章水晶传感器检测

点击主操作画面水晶传感器按钮,表示以下画面。

在此打勾,监视器一直监视设定号码的频率和寿命。

如各层开始时频率低于设定频率时,自动交换下一片水晶。

表示水晶寿命

设定水晶测试范围

点击检测开始按钮测试开始。测试结束后,好部分呈白色,不好部分呈黄色。另外,测试前的未测试部分呈灰色。

第7章维护

维护的范围包括构成设备的部件及设备的管理。

7.1.维护参数的种类

维护的范围包括

旋转泵

罗茨机械泵

油扩散泵

工件盘旋转机构

电子枪1及电子枪2的灯丝

灯泡

中和器

离子束

PenningGauge

7.2.维护时期的管理

前项各部品及设备的维护时期,显示在主操作画面的右下部分。可以参考该处。

该区域的进展条随着各部件及设备的使用时间的增加而延伸。

又、进展条表示的各部分的最大延伸时间可以预先设定。

7.3.进展条的设定方法

设定维护时间

能设定进展条表示的最大时间。

操作方法

请点击主操作画面的“Set“按钮。维护画面被表示。

请在各机器及部件的Set栏,设定维护时间。

设定完了后,请点击“OK“按钮。

使用时间的重新设置

能将使用时间重新设置为“0”。

操作方法

请在主操作

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