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文档简介

微电子学冯辰亮12341010

TFT-LCD课程第二次作业TFT-LCD制作流程共分为四个部分：1、阵列工艺；2、彩膜工艺；3、成盒工艺；4、模组工艺；

阵列工艺：即在玻璃基板上制作出数百万个薄膜晶体管其内容主要包括：1、玻璃清洗2、镀膜（包括金属、半导体和绝缘体薄膜）3、光刻过程溅射淀积形成金属层：将金属材料放在真空室内,用电场加速惰性元素粒子轰击金属板,金属上的原子就会被撞向玻璃,然后就形成金属薄膜。

光刻过程：在金属板上涂光刻胶，曝光后，曝光部分被显影液溶解，放入腐蚀液或腐蚀气体中，对应薄膜会被腐蚀。最后用化学剥离液去除光刻胶即可。PECVD(PlasmaEnhancedChemicalVaporDeposition)--

等离子体增强化学气相沉积法:借助微波或射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。

制作过程中以此形成半导体和绝缘体薄膜。彩膜工艺：即彩色滤光片的制作流程。

通过显影、曝光，依次形成黑矩阵和RGB滤光层，再在其上覆盖一层有机保护层和透明导电膜（ITO）

成盒工艺：即将阵列基板和彩盒基板精确对合，形成液晶盒的过程。1、清洗2、取向过程3、滴注液晶4、涂封边框胶5、压缩成盒液晶取向技术：液晶的取向技术可以实现整个基板表面液晶分子相对基板形成整齐的排列并具有最佳的夹角,并且有足够的稳定性。只有这样,液晶分子才会在宏观上表现出来其长程有序性。模组工艺：1、贴附偏光片；2、将液晶屏引线外联，配外围电路；3、和背光源组装并机械加固；各向异性导电胶黏剂（ACA）

由粘料、

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