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硅片平整度检测主讲教师：目录CONTENTS01.查询国家检测标准02.检测原理及方案03.检测组织实施04.检测结果分析05.课堂总结查询国家标准PART01一、查询国家标准检测原理及方案PART02二、检测原理及方案（一）光干涉法测量装置01.掠射入射干涉仪由单色光源、聚焦透镜、毛玻璃散射盘、准直透镜、基准棱镜、目镜和观察屏组成。02.真空系统真空系统包括真空泵、真空量规和真空吸盘，用于固定被测硅片。显示器试样试样固定架观察透镜准直透镜基准凌镜基准面马达单色光源聚焦透镜毛玻璃盘二、检测原理及方案（一）光干涉法测量装置03.校准劈校准劈为平整度已知的光学平晶，用于校准干涉仪灵敏度。显示器试样试样固定架观察透镜准直透镜基准凌镜基准面马达单色光源聚焦透镜毛玻璃盘二、检测原理及方案（二）光干涉法检测方法描述用真空吸盘吸住被测硅片背面，硅片测量表面尽可能地靠近（两面相距约25～500μm）并近似平行于干涉仪基准平面，来自单色光源的平面波受到硅片被测表面和干涉仪基准平面的反射，在空间迭加形成光干涉。由于各处光程差不同，在屏幕上出现干涉条纹。基准棱镜入射线基准面试样待测表面测试光束参考光束观察装置至干涉仪条纹二、检测原理及方案（二）光干涉法检测方法描述分析所得到的干涉条纹，可度量被测表面的平整度，用总指示读数（TIR）表示。掠射入射干涉仪参考棱镜基准面峰对谷偏差谷偏差峰偏差待测试样的上表面检测组织实施PART03三、检测组织实施（一）光干涉法检测步骤：（1）利用已知平整度的校准劈，调节其入射角θ，校准确定仪器灵敏度d；（2）检查真空吸盘平整度；（3）将待测硅片置于真空吸盘上吸住，调节使其被测表面尽量靠近但不接触基准面；三、检测组织实施（一）光干涉法检测步骤：（4）调节真空吸盘倾斜控制器，消除因硅片被测面倾斜而产生的干涉条纹，直到看到的条纹数目最少。图中给出了有或者无倾斜时的三种典型干涉图，当无倾斜时，最少的干涉条纹代表被测表面的状况；数字0代表高的区域，2代表低的区域；图中每种情况下，峰谷值为两条条纹；三、检测组织实施（一）光干涉法检测步骤：（5）确定被测表面最高点和最低点，读出其间完整及不完整的条纹总数目M，当M太大或太小时，需要重新确定仪器灵敏度。如果M＞10，减小入射角将仪器灵敏度调低一倍；如果M＜2，增大入射角将仪器灵敏度调高一倍。无倾斜有倾斜球形表面马鞍形表面圆柱表面三、检测组织实施（一）光干涉法检测步骤：（6）计算被测硅片表面平整度TIRTIR=dMd──干涉仪灵敏度，μm/每条干涉条纹M──测量时干涉条纹总数目TIR──硅片平整度（总指示读数）无倾斜有倾斜球形表面马鞍形表面圆柱表面检测结果分析PART04四、检测结果分析撰写检测报告书课堂总结PART05小结SUMMARY01光干涉法检测设备装置；02光干涉法检测基本原理；最后，我们来回顾一下本小节的内容：思考THI

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