精密光学元件抛光技师考试试卷及答案

精密光学元件抛光技师考试试卷及答案一、填空题（共10题，每题1分）1.精密光学元件抛光常用氧化铈抛光粉，其主要成分化学式是______。2.光学抛光中，工件与抛光模的相对线速度称为______。3.平面批量抛光常用______抛光机。4.玻璃抛光常用的软质抛光模材料是______。5.抛光后表面粗糙度的常用单位是______（nm）。6.抛光液的______需稳定，避免影响均匀性。7.球面抛光核心设备是______抛光机。8.避免划痕的关键是控制______的清洁度。9.抛光模修整常用______工具。10.抛光最终需获得低粗糙度和高______的表面。二、单项选择题（共10题，每题2分）1.以下硬度最高的抛光粉是？A.氧化铈B.氧化铝C.二氧化硅D.氧化锆2.双面抛光工件的运动方式是？A.仅公转B.仅自转C.公转+自转D.固定3.软质玻璃抛光适合用？A.硬质聚氨酯B.沥青C.陶瓷D.金属4.抛光液pH值通常控制在？A.酸性B.中性C.碱性D.任意5.精密抛光表面粗糙度一般低于？A.1μmB.10nmC.100nmD.1mm6.球面抛光模曲率半径比工件______？A.相等B.略大C.略小D.无关7.不影响抛光效率的是？A.压力B.速度C.温度D.工件颜色8.抛光模磨损主要因？A.化学腐蚀B.机械摩擦C.热变形D.老化9.平面抛光工件定位用？A.粘贴B.卡盘C.载具夹持D.自由放10.检测表面粗糙度的仪器是？A.千分尺B.干涉显微镜C.游标卡尺D.放大镜三、多项选择题（共10题，每题2分）1.抛光工艺参数包括？A.压力B.速度C.液浓度D.时间2.常用抛光粉类型有？A.氧化铈B.氧化铝C.二氧化硅D.氧化锆3.抛光模材料包括？A.沥青B.聚氨酯C.陶瓷D.金刚石4.影响表面质量的因素有？A.粉粒度B.液清洁度C.模精度D.湿度5.双面抛光优点是？A.效率高B.平面度好C.双面加工D.成本低6.球面抛光关键技术有？A.曲率匹配B.轨迹控制C.压力均匀D.液流量7.需控制的环境因素有？A.温度B.湿度C.洁净度D.光照8.抛光后检测项目有？A.粗糙度B.面形精度C.划痕密度D.尺寸公差9.抛光液作用有？A.冷却B.润滑C.排屑D.化学腐蚀10.影响模寿命的因素有？A.压力B.粉硬度C.温度D.时间四、判断题（共10题，每题2分）1.氧化铈仅适用于玻璃抛光。（×）2.抛光速度越快，效率和质量越高。（×）3.双面抛光可同时加工多个工件。（√）4.模硬度越高，效率越低。（×）5.液浓度越高，效果越好。（×）6.球面抛光自转越快，精度越高。（×）7.精密抛光需1000级洁净度。（√）8.沥青模寿命比聚氨酯长。（×）9.压力均匀性对质量影响小。（×）10.干涉显微镜可测面形精度。（√）五、简答题（共4题，每题5分）1.抛光粉粒度选择原则答案：需匹配工件材料、粗糙度要求及抛光阶段。粗抛（去余量）选1-5μm大粒度，效率高；精抛（降粗糙度）选0.1-1μm小粒度，避免划痕。硬材料（石英）选稍大粒度，软材料（光学玻璃）选小粒度。需粒度分布均匀，无粗颗粒残留，同时匹配模硬度，保证抛光均匀。2.双面抛光机工作原理答案：由上下抛光盘、载具、太阳轮/内齿圈组成。太阳轮/内齿圈带动载具公转，盘体摩擦使载具自转，工件在上下盘间被抛光。上盘可调压，液从中心/边缘注入。通过控制公转/自转速度、压力、液参数，实现双面同步抛光，适合批量平面元件，保证平面度。3.避免划痕的关键措施答案：①控制环境洁净度，防粉尘；②选均匀粒度粉，过滤抛光液；③定期清理模体，去残留颗粒；④控制压力/速度，避免过载；⑤装夹前清洁工件，去油污杂质；⑥用洁净液，定期更换；⑦抛光后及时清洗，防颗粒残留。4.粗糙度检测方法及原理答案：常用干涉显微镜：被测表面与平晶贴合形成空气楔，入射光反射干涉，条纹弯曲反映粗糙度，算Ra/Rz。另一种AFM：探针扫描表面，检测原子间作用力，获三维图像，精度达纳米级，适合超精密检测。六、讨论题（共2题，每题5分）1.影响面形精度的因素及改进措施答案：主要因素：①模精度不足（变形/曲率不匹配）；②压力不均；③运动轨迹失调；④液分布不均。改进：①定期修整模体，保证曲率；②用压力传感器实时调上下盘压力；③优化公转/自转比例；④改进液供给系统，均匀喷洒；⑤在线检测面形，实时反馈调工艺。2.平面与球面抛光的适用场景及差异答案：平面抛光：适用平板玻璃、窗口等，批量效率高。工艺：双面机，载具夹持，公转+自转，上下盘抛光，侧重平面度。球面抛光：适用透镜、反射镜等，侧重曲率精度。工艺：球面机，模曲率略大，工件/模做摆角+公转运动，控制曲率和面形。两者均控压力/速度，但球面更重曲率匹配，平面更重压力均匀。答案汇总一、填空题1.CeO₂2.抛光速度3.双面4.沥青5.纳米6