CN119472191A 掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法及系统 （佛山清溢微电子有限公司）

建沙路东二区1号联东优谷北苑3座掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量本发明公开了一种掩模版曝光时的关键尺总结归纳出所述各类关键形状在不同曝光剂量的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法使得掩模版生产中关键尺寸测量值和设计值的标准差可2测量所述各种掩模版关键形状测量值和设计值之间的差异键形状在不同曝光剂量下的不同尺寸的测量值与设计值之间的根据上述测量结果，得出各类关键形状下不同设2.根据权利要求1所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，其特征3.根据权利要求1所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，其特征4.根据权利要求1所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，其特征5.根据权利要求1所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，其特征关键形状下不同设计尺寸与曝光剂量补正量的关系根据拟合策略进行拟合，得出拟合公6.根据权利要求5所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，其特征0+a1*x2+a2*x2+a3*x303)代入拟合函数得到该关键形状的拟合公7.根据权利要求1所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，其特征8.一种采用权利要求1至7任一所述的掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿所述测量模块用于测量所述各种掩模版关键形状测量值和设计值之间所述曝光剂量补正量的关系归纳设定模块用于归纳得出各类关键形状下不同设计尺所述控制系统用于自动选择对应的关系，计算出对应的曝光剂量补正量3会导致掩模版的关键形状测量值和设计值有[0013]关键形状测量值和设计值的差异是掩模版产品质量的主[0014]本发明要解决的技术问题是提出一种掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿方法，该方法使得掩模版生产中关键尺寸测量值和设计值的标准差可降为原来的一4类关键形状在不同曝光剂量下的不同尺寸的测量值与设计值之[0019]根据上述测量结果，得出各类关键形状下不同设计尺寸与曝光剂量补正量的关a12[0032]所述曝光剂量补正量的关系归纳设定模块用于归纳得出各类关键形状下不同设曝光剂量补偿方法使得掩模版生产中关键尺寸测量值和设计值的标准差可降为原来的一5[0036]图2为本发明一种掩模版曝光时的关键尺寸所用的曝光剂量补偿系统的系统框[0037]图3为本发明根据影响掩模版曝光时关键图形因素设计多种测试图形的一种图[0038]图4为本发明根据影响掩模版曝光时关键图形因素设计多种测试图形的另一种图[0039]图5为本发明各类关键形状在不同曝光剂量下的不同尺寸的测量值与设计值之间[0047]根据上述测量结果，得出各类关键形状下不同设计尺寸与曝光剂量补正量的关6[0057]所述拟合策略具体为：得到一种关键形状n组下不同设计尺寸与曝光剂量补正量0+a1*x2+a2*x2+a3*x3a12[0063]本实施例公开了一种采用实施例一至实施例五任一所述的掩模版曝光时的关键[0065]所述曝光剂量补正量的关系归纳设定模块用于归纳得出各类关键形状下不同设[0067]该方法使得掩模版生产中关键尺寸测量值和设计值的标