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文档简介
1、IGBT元件概述,半导体器件物理课程报告,报告人:小组成员:学校名称:西安交通大学,目录,CONTENTS,01,背景知识,02,发展历程,03,结构与工作原理,04,应用与未来,01,背景知识,01背景知识,电力电子器件(PowerElectronicDevice)又称为功率半导体器件,主要用于电力设备的电能变换和控制电路方面大功率的电子器件。其在功率变换技术的四个主要环节中(输入整流、控制元件、逆变用电力电子器件和输出整流)扮演着不可或缺的角色。可以说是实现将“粗电”精炼成符合应用需要的“精电”的核心器件。,电力电子器件,电力电子器件主要有:1.不可控器件,例如电力二极管;2.半控型器件,
2、例如晶闸管;3.全控型器件,例如GTO(门极可关断晶闸管)、GTR(电力晶体管),MOSFET(电力场效应晶体管)IGBT(绝缘栅双极晶体管):复合全控型电压驱动式功率半导体器件,01背景知识(什么是IGBT),标题数字等都可以通过点击和重新输入进行更改,顶部“开始”面板中可以对字体、字号、颜色、行距等进行修改。建议正文8-14号字,1.3倍字间距。,01背景知识,IGBT(绝缘栅双极型晶体管)兼有MOSFET的高输入阻抗和GTR的低导通压降两方面的优点,同时也克服了BJT尾电流拖曳和MOSFET耐压值不够的缺点工作速度快、开关损耗小、输入阻抗高、驱动电路简单、热温度性好、驱动功率小载流量大、
3、阻断电压高,IGBT的“荣誉”,最先进功率电子器件,02专项重点扶持项目,电力电子行业的CPU,02,发展历程,MOSFET,优点:开关速度快,工作区大缺点:占表面积过大击穿电压低,工作电流小,LDMOS,漂移区:在沟道和高掺杂的漏极间,有一个低掺杂的n型区,称之为漂移区可等效为一个MOSFET和一个电阻的串联,一定程度增大了耐压缺点:仍然没有解决横向线度过长的缺陷,LaterallyDiffusedMOSFET,VMOS&UMOS,V-shaped&U-shapedMOSFET,特点:1.漏极下移,纵向导电,有利于通过纵向减薄控制电流,减小了线尺寸2.将原有晶体管分成两个相对独立的部分,是I
4、GBT的雏形,IGBT,InsulatedGateBipolarTransistors,03,IGBT结构及工作原理,IGBT结构,1.为了能让MOSFET在导通时有两种载流子参与导电,加入p+注入层(injectionlayer),从而加入了正偏的J1结,增加了空穴注入效应2.为了能快速关断,加入了n缓冲层(buffer),从而C注入的空穴被快速复合3.S-C,D-E,IGBT等效电路,对折,IGBT等效电路,1.当VGEVT时,MOS管导通,MOS管的源极从PNP管的基极抽取电流,从而PNP管导通2.当在C加正偏压时,PNP管的集电极流出电流,一部分经接地电阻流入信号地,一部分注入NPN管
5、的基极,使得NPN管导通3.NPN管进一步从PNP管抽取基电流,IGBT等效电路,输出特性曲线和转移特性曲线,04,应用与未来,04应用与未来,IGBT器件应用主要包括显示、照明、驱动、电源、电机调速、机车牵引和高压直流输电等领域。,应用领域,02,输入阻抗高、电压控制、电容输入、驱动电流小、控制电路简单、开关损耗小、开关速度快、频率响应好、工作温度高、热稳定性好等,优势,01,1)场截止FS-IGBT:提高关闭速度2)阳极短接(SA:Shorted-Anode):提高饱和电流,降低饱和压降,新技术,03,IGBT的雏形,导通电阻和关断功耗都比较高,没有普及使用。,第一代,NPT-IGBT,用离子注入的技术生成P+集电极,保持基区载流子寿命而不影响稳态功耗,具有正温度系数特点,第三代,PT-IGBT,基区电场加强呈梯形分布,所以可以减小芯片厚度从而减小功耗。,第二代,Trench-IGBT,最大的改进是采用Trench结构,提高了电导调制效应减小了导通电阻,消除了JFET效应,有效特高耐压能力等,第四代,04应用与未来,“透明集电区技术”与“电场中止技术”组合,第五代,在第五代基础上改进了沟槽栅结构,并以新的面貌出现,第六代
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