发光材料与器件基础_第六章.ppt

1、2020/8/2,电信系光电工程专业,1,发光材料与器件基础,西安邮电学院电信系光电工程专业,2020/8/2,电信系光电工程专业,2,第六章 等离子平板显示（PDP）,1. 气体放电物理，徐学基 诸定昌编著 上海 复旦大学出版社, 1996 2. 等离子体物理学导论，F.F.Chen著; 林光海译 北京 人民教育出版社 1981.9 3. IEEE transaction on devices 4. Journal of display technology 5. Journal of the society for information display 6. The SID2004 Sy

2、mposium on information display,主要参考书目及资料,2020/8/2,电信系光电工程专业,3,第六章 等离子平板显示（PDP）,主要参考书目及资料,7. The SID2005 Symposium on information display 8. 平板显示技术，应根裕, 胡文波, 邱勇等编著 北京， 人民邮电出版社, 2002， 9. 大屏幕显示(日)， 西田信夫主编马杰译 北京 科学出版社, 2003 10. 摄象与显示器件原理 ，清华大学 孙伯尧 应根裕 国防出版社1986.12 11. 显示技术 ，刘榴娣编 北京 北京理工大学出版社 1993.8,2020

3、/8/2,电信系光电工程专业,4,第六章 等离子平板显示（PDP）,2020/8/2,电信系光电工程专业,5,主要内容,等离子体基本概念,2020/8/2,电信系光电工程专业,6,等离子体基本概念,由大量带电粒子组成的非束缚态的宏观体系 非束缚性：异类带电粒子之间相互“自由”，等离子体的基本粒子元是正负荷电的粒子（电子、离子），而不是其结合体。 粒子与电磁场的不可分割性：等离子体中粒子的运动与电磁场（外场及粒子产生的自洽场）的运动紧密耦合，不可分割。 集体效应起主导作用：等离子体中相互作用的电磁力是长程的，每个粒子均与周围许多粒子同时发生作用。,2020/8/2,电信系光电工程专业,7,等离子

4、体是物质的第四态,00C,1000C,100000C,2020/8/2,电信系光电工程专业,8,等离子体的分类,热：热平衡 冷：非热平衡,2020/8/2,电信系光电工程专业,9,等离子体基本概念,2020/8/2,电信系光电工程专业,10,Plasma TV Screen,2020/8/2,电信系光电工程专业,11,影响气体放电着火电压的因素, pd值的作用 巴邢定律表明，当其它因素不变时，pd值的变化对着火电压的变化起了决定性的作用。因此，PDP中充入气体的压强和电极间隙对PDP的着火电压有很大影响。,气体放电物理基础,2020/8/2,电信系光电工程专业,12,气体放电物理基础,2020

5、/8/2,电信系光电工程专业,13,气体放电物理基础,2020/8/2,电信系光电工程专业,14,气体放电物理基础,2020/8/2,电信系光电工程专业,15,潘宁电离： 设A、B为不同种类的原子，原子A的亚稳激发电位大于原子B的电离电位，亚稳原子A* 与基态原子B碰撞时，使B电离，变为基态正离子B+（或激发态正离子B+*），而亚稳原子A*降低到较低能态，或变为基态原子A. A*+BA+B+（或B+*）+e 由于亚稳原子平均寿命是10-410-2s ，因此潘宁电离的几率较高，使得基本气体的有效电离电位明显降低。另外，着火电压下降的大小还与两种气体的性质和它们量的混合比有非常密切的关系。,气体放

6、电物理基础,2020/8/2,电信系光电工程专业,16,气体放电物理基础,使用辅助电离源来加快带电粒子的形成，也可以使着火电压降低。 例如： 人工加热阴极产生热电子发射，取代发射过程的作用； 用紫外光照射阴极，使阴极产生光电发射； 放射性物质靠近放电管，放射性射线引起气体电离； 通过预放电提供初始的带电粒子等可以大大降低着火电压。,2020/8/2,电信系光电工程专业,17,气体放电物理基础,辉光放电的发光,基本特征： (1) 放电时，在放电空间呈现明暗相间、有一定分布规律的光区。 (2) 由于着火后，空间电荷引起的电场畸变使放电空间电位基本上分成两段：阴极位降区和正柱区。在阴极位降区中产生电

7、子繁流过程，满足放电自持条件，故它是维持辉光放电必不可少的部分。 (3) 管压降明显低于着火电压，并且不随电流而变。电流为毫安级。电流密度为A/cm2至mA/cm2数量级。 (4) 阴极电子发射主要是过程。,2020/8/2,电信系光电工程专业,18,气体放电物理基础,正常辉光放电的光区分布：,一个充氖的冷阴极放电管长50cm，气压 P133Pa， 在正常辉光放电时的光区和电参量分布,(1)阿斯顿暗区 由于受正离子轰击从阴极发射出来的二次电子初速很小，不具备激发条件。由于没有受激原子，因而是暗区。 (2)阴极光层 电子在通过阿斯顿暗区以后，从电场中获得了一定的能量，足以产生激发碰撞，使气体发光

8、。但电子数量不大，激发很微弱。,2020/8/2,电信系光电工程专业,19,气体放电物理基础,(3)阴极暗区 电子离开阴极后，到这里获得的能量愈来愈大，甚至超过了激发几率的最大值，于是激发减少，发光减弱。在这个区域内，电子能量已超过电离电位，引起了大量的碰撞电离，繁流放电集中在这里发生。,在正常辉光放电时的光区和电参量分布,2020/8/2,电信系光电工程专业,20,气体放电物理基础,(4)负辉区 进入负辉区的电子可以分为两类: 快电子和慢电子。慢速电子是多数，它们在负辉区产生许多激发碰撞，因而产生明亮的辉光。 在阴极暗区，因离子浓度很高，它们会向负辉区扩散，因而负辉区中，电子和正离子的浓度都

9、很大，而电场很弱，几乎是无场空间。负辉区中电子和正离子浓度比正柱区中约大20倍。,在正常辉光放电时的光区和电参量分布,2020/8/2,电信系光电工程专业,21,气体放电物理基础,（5）法拉第暗区 这是一个处于负辉区和正柱区之间的过渡区。由于电子在负辉区中损失了很多能量，进入这个区域以后，便没有足够的能量来产生激发，所以是暗区。,在正常辉光放电时的光区和电参量分布,2020/8/2,电信系光电工程专业,22,气体放电物理基础,（6）正柱区 在任何位置电子密度和正离子密度相等，净空间电荷为零。电场沿管轴均匀分布。因正离子的迁移率很小，放电电流主要是电子流。正柱区中有一定的轴向电场强度，电子从电场

10、中获得一定的能量，产生一定数量的碰撞电离和激发。 （7）阳极区 在该区有时可以看见阳极暗区，在阳极暗区之后是紧贴在阳极上的阳极辉光。,在正常辉光放电时的光区和电参量分布,2020/8/2,电信系光电工程专业,23,气体放电物理基础,正常辉光放电规律：,(1)在正常辉光放电时，放电仅仅发生在阴极表面的一部分面积上，随着放电电流的增大，阴极表面的辉光面积也随之增大，而在这个过程中，阴极电流密度jcn则保持不变，阴极位降Ucn也保持常数。当阴极面积全部被辉光覆盖后，若继续增大电流，则阴极位降Ucn随之增加，放电转入了反常辉光放电阶段。 (2)当放电的其他条件保持不变时，正常辉光放电阴极位降区的长度d

11、cn随气压P成反比例变化。即Pdc常数 (3)当气压P改变时，放电电流密度jcn与气压的平方成正比。即jcn/P2常数,2020/8/2,电信系光电工程专业,24,气体放电物理基础,辉光放电的各发光区中，发光强度以负辉区最强，正柱区居中，阴极光层和阳极辉光最弱。 PDP的发光效率不高的原因： 虽然正柱区的强度不如负辉区强，但它的发光区域最大， 因此对光通量的贡献也最大。如日光灯就是利用正柱区发光，光效高达80lm/W。而PDP由于其放电单元的空间通常很小（电极间隙约100m），放电时只出现阴极位降区和负辉区，所以通常利用的是负辉区的发光。 提高PDP的亮度和发光效率的措施之一： 改进放电单元结

12、构，采用正柱放电。,2020/8/2,电信系光电工程专业,25,气体放电物理基础,2020/8/2,电信系光电工程专业,26,一、等离子体显示器概述 二、气体放电物理基础 三、彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍 四、彩色AC-PDP的制造材料和工艺 五、彩色AC-PDP电路系统 六、彩色AC-PDP技术的新发展 七、PDP的应用及未来发展,提 纲,2020/8/2,电信系光电工程专业,27,(a)对向放电型AC-PDP (b) 表面放电型AC-PDP,基本结构和工作原理,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,2020/8/2,电信系光电工程专业,28,彩色交流等离子体显示器（AC

13、-PDP)介绍,2020/8/2,电信系光电工程专业,29,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,PDP显示屏放电单元,2020/8/2,电信系光电工程专业,30,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,PDP实现彩色化的途径： （1）利用不同的混合气体放电时直接发出的红、绿、蓝三基色。 （2）利用气体放电产生的低能电子轰击低压荧光粉发光。 （3）利用气体放电时产生的UV激发光致荧光粉发光。,2020/8/2,电信系光电工程专业,31,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,PDP显示屏放电单元,2020/8/2,电信系光电工程专业,32,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介

14、绍,对放电气体的要求： 着火电压低； 辐射的真空紫外光谱与荧光粉的激励光谱相匹配，而且强度高； 放电本身发出的可见光对荧光粉发光色纯影响小； 放电产生的离子对介质保护膜材料溅射小； 化学性能稳定。,彩色PDP用放电气体： 放电气体(成分、混合配比和充气压强) 对彩色PDP性能的影响: 工作电压 发光效率 发光亮度 功耗 白场色度 显示的稳定性 寿命,2020/8/2,电信系光电工程专业,33,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,为什么汞蒸汽 不能用于彩色PDP: 汞的饱和蒸气压较低，不能满足高气压、低着火电压要求；大量使用汞会污染环境。,2020/8/2,电信系光电工程专业,34,彩色

15、交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,发光机理: 彩色PDP发光的基本过程： （1）气体放电过程，即利用稀有混合气体在外加电压的作用下产生放电，使原子受激而跃迁，发射出真空紫外线（200nm）的过程； （2）荧光粉发光过程，即利用气体放电所产生的紫外线，激发光致荧光粉发射出可见光的过程。,2020/8/2,电信系光电工程专业,35,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,Ne-Xe气体放电的主要电离过程： 电子碰撞电离和潘宁电离。 电子被电场加速到能量大于21.6ev时，可与基态Ne原子发生电离碰撞 e+NeNe+2e 电子被电场加速到能量达16.6ev时，与Ne原子碰撞，可使基态Ne原

16、子激发到亚稳态 e+NeNem+e Nem的寿命长达0.110ms，与其它原子碰撞的几率很高，当与Xe原子碰撞时可使其电离，即发生潘宁电离 Nem+XeNe+Xe+e,2020/8/2,电信系光电工程专业,36,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,被加速的电子还会与Xe+碰撞形成Xe的激发态 e+Xe+Xe*+ h Xe*为Xe原子2P5，2P6能级的激发态。它很不稳定，极易跃迁到谐振态Xe*（1S4能级），并发出波长为828nm的红外线。 Xe*(1S4)Xe+h（147nm） Xe2U表示分子激发态Xe2*(Ou+)，Xe2V表示分子激发态Xe2*(1u+)和Xe2*(3u+)，它

17、们由以下的两体或三体碰撞产生：,2020/8/2,电信系光电工程专业,37,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,混合气中Xe原子对着火电压的影响： 与He和Ne原子发生潘宁电离，有利于放电进行； Xe含量增高使平均电子能量下降，引起电子对He、Ne、Xe原子电离碰撞总截面减小，不利于放电进行。 最终使着火电压增高还是降低，要看这两方面的影响哪个是主要的。这与Xe气含量有关。,2020/8/2,电信系光电工程专业,38,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,彩色PDP三基色荧光粉材料及发光机理,对彩色PDP使用的荧光粉的要求： 在真空紫外线的激发下，发光效率高； 色彩饱和度高，色彩

18、再现区域大； 余辉适宜； 热稳定性和辐照稳定性好； 有良好真空性能，即具有低的饱和蒸汽压并容易去气； 涂覆性能良好。,2020/8/2,电信系光电工程专业,39,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,彩色PDP通常选用的荧光粉： 红粉： (Y,Gd) BO3:Eu3+； 绿粉：BaAl12O19: Mn2+，Zn2SiO4:Mn2+； 蓝粉：BaMgAl10O17 :Eu2+，BaMgAl14O23:Eu2+。 (Y,Gd) BO3:Eu3+ ， Zn2SiO4:Mn2+ ， BaMgAl14O23:Eu2+荧光 粉组合，可达到与彩色显像管相近的彩色重现区域。,2020/8/2,电信系光

19、电工程专业,40,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,荧光粉发光过程,2020/8/2,电信系光电工程专业,41,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,荧光粉的劣化,工序劣化 荧光粉在PDP制作过程中受到工艺影响而产生的劣化称为工序劣化。在PDP制作过程中主要的工序劣化：混合成为浆料过程中的机械冲击力和在干燥、焙烧、封接和排气过程中受到的热冲击。,2020/8/2,电信系光电工程专业,42,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍, 历时劣化 在PDP工作过程中，荧光粉受到以下负荷： 激励荧光粉发光的真空紫外线的轰击； 所充气体如Xe离子等的轰击； 从前面板溅射的MgO覆盖到荧

20、光粉屏后，使紫外线无法打倒荧光粉上(MgO对紫外线有强烈的吸收作用)。,2020/8/2,电信系光电工程专业,43,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,MgO薄膜的二次电子发射 二次电子发射机理： 势能发射 在势能发射中，出射电子是入射离子在轰击表面时势能传输的结果。 条件： 只有当入射离子的势能高于功函数的两倍（金属靶）或电子亲和势与能带间隙的和（Eg）的两倍（半导体靶和绝缘体靶）时电子发射才会发生。,2020/8/2,电信系光电工程专业,44,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,彩色等离子体显示板的典型结构,Thomson公司采用的彩色AC-PDP结构,富士通公司开发的三电

21、极表面放电型结构彩色AC-PDP,2020/8/2,电信系光电工程专业,45,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,三电极表面放电型AC-PDP,2020/8/2,电信系光电工程专业,46,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,（1）反射式面放电结构可减少荧光粉损伤，实现3万小时以上的长寿命。 （2）放电间隙一致性容易控制，整体画面的亮度均匀性好，易实现大屏幕显示。 （3）放电在共面的阴极和阳极之间进行，放电有效区域大，VUV辐射空间大，亮度和发光效率高。 （4）通过特殊的放电单元构造，可扩大荧光粉的涂覆面积，大大提高亮度和发光效率。,面放电AC PDP结构的优点,2020/8/2

22、,电信系光电工程专业,47,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,富士通公司开发的53cm彩色AC-PDP所采用的三电极表面放电型结构的特点： （1）前后基板都只具有一维结构，并且相互正交。两块板装配时，对位要求不严格，因为正交结构无论在哪里交叉都会自动构成像素。,单一基板上制造障壁，工艺简化,2020/8/2,电信系光电工程专业,48,彩色交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,（2）采用了条状障壁结构，像素结构简单。便于减小像素节距，而且可以使没有被电极覆盖的像素面积增加，使亮度提高。,“田”字形单元排列的像素结构,条形排列的像素结构,2020/8/2,电信系光电工程专业,49,彩色

23、交流等离子体显示器（AC-PDP)介绍,（3）采用反射式PDP结构，荧光粉涂覆在后基板和障壁的侧壁上。 （4）为了增加透光性，前基板上的显示电极使用透明导电材料。但透明电极的阻值较高（1020 K），为了增加动态范围，必须减小电极电阻（200），因此，再在透明电极之上制作很细的金属电极。,反射式发光，亮度高,2020/8/2,电信系光电工程专业,50,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,彩色AC-PDP主要部件,1. 玻璃基板 技术要求: 表面平坦， 应变点温度高，热膨胀系数与电极材料和介质材料匹配。 实用材料： （1）普通平板钠钙玻璃 优点：价格便宜，与已开发出的彩色 PDP所用的其它材料相

24、匹配。 缺点：应变点低（一般为500左右），热稳定性差。,（一）彩色AC-PDP的主要部件及其制作材料,2020/8/2,电信系光电工程专业,51,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,玻璃的几个特征温度,转换温度 指玻璃成塑性体与弹性体之间的分界温度。它相当于玻璃粘度为1013Pa.s时的温度。在此温度下，玻璃体内的应力大约需保温4h才可基本消除。 退火温度 它相当于玻璃粘度为1012Pa.s时的温度。在该温度时，玻璃处于塑性状态，玻璃体内应力只需保温4min就可基本消除。 软化温度 玻璃由塑性状态变为具有流动性能时的温度，称为软化温度。它相当于粘度为105Pa.s时的温度。,2020/8/2

25、,电信系光电工程专业,52,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,钠钙玻璃由于冷却速度不同造成热处理后的变形,钠钙玻璃在电极浆料烧结后的产生的弯曲,2020/8/2,电信系光电工程专业,53,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（2） PDP专用基板玻璃 优点：高应变点，如 PD200（应变点570）、CS25（应变点610）， 热稳定性好。 缺点：价格昂贵,2020/8/2,电信系光电工程专业,54,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺, PDP用玻璃基板生产厂家 日本： 主要有旭硝子、Central硝子、日本板硝子等公司。 旭硝子于1991年前后与PDP厂家签订共同开发合司； 1992年制成P

26、DP用玻璃板； l995年夏购入PDP用玻璃基板的浮法生产设备，同年开始出 售小批量产品； 1996年7月发表关于PDP高应变温度玻璃的信息。 其他： 美国Corning公司和法国Saint Gobain公司联合进行PDP用玻璃基板的生产。,2020/8/2,电信系光电工程专业,55,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（二）透明电极, 作用： 透明电极仅设置在AC-PDP的前基板上，减少对可见光的阻挡，并与同一基板上设置的汇流电极成对构成放电用的电极，即显示电极。, 技术要求: 可见光透过率高，电导率高，刻蚀性能优良。, 实用材料： 氧化铟锡（ITO）薄膜、SnO2薄膜。 ITO膜采用氧化铟

27、与氧化锡比值大致为9：1的混合物靶通过溅射法制取膜层具有优良的光透射率及导电性。PDP用ITO膜的表面电阻从2030(每单位面积电阻，膜厚1500A)到1000 (膜厚500A)。,2020/8/2,电信系光电工程专业,56,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,ITO薄膜特点： ITO工艺成熟，刻蚀性能良好，但在PDP工艺中经过高温处理时，阻值变化较大。 SnO2薄膜特点： 成膜工艺简单，成本低，且热稳定性好，但其刻蚀性能不易掌握。,2020/8/2,电信系光电工程专业,57,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（三）汇流电极和寻址电极,汇流电极: 作用: 减小显示电极电阻 要求: 导电性能好

28、，与透明导电薄膜附着力强 制作材料和方法: Cr-Cu-Cr薄膜 磁控溅射法制备薄膜，刻蚀成形 Ag浆料 丝网印刷图形，烧结制成 光敏Ag浆料 丝网印刷，光刻成形，烧结制成,2020/8/2,电信系光电工程专业,58,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,寻址电极: 要求: 导电性能好，与基板玻璃附着力强。 制作材料和方法: Ag浆料 丝网印刷图形，烧结制成。 光敏Ag浆料 丝网印刷，光刻成形，烧结制成。,2020/8/2,电信系光电工程专业,59,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（四）介质层 作用: 把电极与放电等离子体分隔开，限制了放电电流的无限增长，保护了电极； 使 AC-PDP工作在

29、存储模式, 有利于降低放电的维持电压 材料: 介质浆料主要由玻璃粉、树脂粘结剂、溶剂等组成。,2020/8/2,电信系光电工程专业,60,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,介质浆料种类: (1) 流动型 介质烧结温度远高于介质的软化点。 特点：透过率高，表面平滑性好，但与电极反应大，绝缘性能不如软化型浆料。 (2)软化型 介质的烧结温度在介质的软化点附近。 特点：绝缘性能良好，与电极反应小，但表面平滑性差、透过率低。,2020/8/2,电信系光电工程专业,61,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（五）介质保护膜 作用: 延长显示器的寿命； 增加工作电压的稳定性； 降低器件的着火电压； 减小

30、放电的时间延迟。, 技术要求: 二次电子发射系数高； 表面电阻率及体电阻率高： s1012/，v1011.m 耐离子轰击； 击穿强度高：E(8-10)106v/m； 与介质层的膨胀系数相近； 放电延迟小； 易于制备。,2020/8/2,电信系光电工程专业,62,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺, 材料: 可供选择的保护膜材料有： （1）碱金属氧化物（CsO）：优点是使PDP工作电压低，缺点是CsO在空气中极不稳定，难以制备保护膜。 （2）碱土金属（A族）氧化物：BaO，MgO，CaO，SrO工作电压低，且提高了PDP的工作稳定性，但它们在空气中的稳定性也较差。 （3）B及族氧化物：Al2O3

31、 ，SiO2， TiO2，ZrO2，HfO2等，工作稳定性好，但工作电压高。 （4）La 系金属氧化物：La2O3 、 CeO2等，工作电压低，工作稳定，但放电延时大。 以上材料中，MgO薄膜不仅具有很强的抗溅射能力，而且有很高的二次电子发射系数，有利于提高PDP的寿命和降低PDP的工作电压；MgO薄膜最适合作为PDP的介质保护薄膜。,2020/8/2,电信系光电工程专业,63,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（六）障壁 作用: 保证两块基板间的放电间隙，确保一定的放电空间； 防止相邻单元间的光电串扰。 技术要求: 对障壁的要求是高度一致(偏差在5m以内)，形状均匀。 障壁宽度应尽可能窄，

32、以增大单元的开口率，提高器件亮度。,2020/8/2,电信系光电工程专业,64,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（七）荧光粉层 将VUV转变为可见光，实现彩色显示。 要求: 发光效率高，色彩饱和度高，厚度均匀. （八）放电气体 用于产生真空紫外辐射（VUV）。,2020/8/2,电信系光电工程专业,65,彩色AC-PDP制作工艺,2020/8/2,电信系光电工程专业,66,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,丝网印刷原理示意图 丝网印版（a. 网框, b. 丝网上非图文部分(简称版膜), c.丝网上图文部分）2.刮板3.浆料4.基板,丝网印刷的工艺流程： 丝印制版丝网印刷浆料烘干浆料烧结

33、用丝网印刷法制作PDP的各个部件，其质量取决于多种因素： （1）浆料方面 浆料的性质、成分、颗粒度及均匀性、载体材料、粘度及触变性等。,2020/8/2,电信系光电工程专业,67,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,（2）基板方面 基板材料、尺寸精度、平整度和光洁度等。 （3）刮板方面 刮板材料的种类、硬度、形状等。 （4）丝网方面 丝网材料的种类、性质、丝网目数、丝网线径、丝网张力、版膜的种类、框架平整度、框架与网线夹角等。 （5）印刷方式方面 印刷接触角、印刷压力、印刷速度、印刷间隙等；在印刷环境条件方面，有温度、湿度和清洁度等。 （6）其他方面 干燥时间和温度以及烧结工艺等。,2020/8/2,电信系光电工程专业,68,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,印刷工艺的优点： 具有设备低价，工艺简易，生产率高、成本低等优点。主要用来制造汇流电极、寻址电极、介质层、荧光粉层、障壁、封接层等部件。 缺点： 与光刻技术相比，印刷工艺的缺点是精度较差，分辨率不易做高。,2020/8/2,电信系光电工程专业,69,彩色AC-PDP的的制造材料和工艺,前基板的关键制造工艺,(一)透明电极的制作 ITO连续薄膜的形成：,2020/8/2,电信系光电工程专业,70,彩色AC-PDP的的制造材料和工