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文档简介

下一页总目录 章目录 返回 上一页 第第 14章章 半导体器件半导体器件 14.1 半导体的导电性 14.2 PN结及其单向导电性 14.3 二极管 14.4 稳压二极管 14.5 双极型晶体管 14.6 光电器件 下一页总目录 章目录 返回 上一页 掌握二极管的单向导电性及应用; 掌握理想二极管、稳压二极管的伏安 特性及应用; 熟练掌握三极管的电流放大作用和开 关作用,以及三极管三个工作区域的 判定。 重点内容 第第 14章章 半导体器件半导体器件 下一页总目录 章目录 返回 上一页 半导体器件是电子技术的重要组成部分。 半导体器件的发展:分立半导体器件 小规模集 成电路 中规模集成电路 大规模和超大规模集 成电路。 最常用的半导体器件:半导体二极管、半导体三 极管。 半导体二极管和三极管的结构、工作原理、特性 和参数是学习电子技术和分析电子电路必不可少 的基础。 第第 14章章 半导体器件半导体器件 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.1.1 本征半导体 现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗, 它们的最外层电子(价电子)都是四个。 Si 硅原子 Ge 锗原子 14.1 半导体的导电特性 2 8 18 4+32 +14 2 8 4 下一页总目录 章目录 返回 上一页 硅和锗的共价键结构 共价键 共用电子对 +4 +4 +4 +4 +4表示除 去价电子 后的原子 完全纯净的、晶格完整的半导体,称为 本征半导 体 。 本征半导体的导电能力很弱。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 空穴和自由电子的形成 共价键 共用电子对 自由电子 空穴 Si Si Si Si 因此,当在半导体两端加上外电压时,半导体中将出现两部分电流: 电子电流 :自由电子做定向运动所形成的电流。 空穴电流 :邻近价电子递补空穴形成的电流。(注意:价电子仍被原子 核所束缚,不是自由电子。) 空穴被 认为带 一个单 位的正 电荷, 并且可 以移动 。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 本征半导体小结 在半导体中,同时存在 电子导电 和 空穴导电 ,这是半导体 导电方式的最大特点,也是半导体和金属导电原理上的本 质差别。 在半导体中有 两种载流子 : 自由电子和空穴 。 温度对半导体性能的影响很大 ,温度愈高,载流子的数目 就愈多,导电性能也就愈好。 本征半导体中的自由电子和空穴总是成对出现的,同时又 不断复合,在一定温度下, 载流子的产生与复合 达到动态 的平衡,于是半导体中载流子的数目便维持一定数目。 本征半导体中两种载流子的数目很少,导电能力是很弱的 ,但是如果在其中掺入某些微量的杂质,就会使导电性能 大大增强。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.1.2 N型半导体和 P型半导体 N型半导体 :又称为电子半导体,自由电子是 多数载流子,空穴是少数载流子。 P型半导体 :又称为空穴半导体,空穴是多数 载流子,自由电子是少数载流子。 在本征半导体中掺入某些微量的杂质,就会使 半导体的导电性能发生显著变化。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 N型半导体 多余电子磷离子 硅原子 + N型硅表示 Si P Si Si 硅或锗 + 少量磷 N型半导体 + 下一页总目录 章目录 返回 上一页 硼离子 P型硅表示 Si SiSi B 硅原子 硅或锗 + 少量硼 P型半导体 P型半导体 - 空穴 下一页总目录 章目录 返回 上一页 杂质半导体的示意表示法 P型半导体 + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + N型半导体 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.2.1 PN 结的形成 在同一片半导体基片上,分别制造 P型半 导体和 N型半导体,经过载流子的扩散,在 它们的交界面处就形成了 PN结。 14.2 PN结及其单向导电性 下一页总目录 章目录 返回 上一页 P型半导体 N型半导体 + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + 扩散运动 内电场 E 漂移运动 空间电荷区 PN结处载流子的运动 规律 下一页总目录 章目录 返回 上一页 P型半导体 N型半导体 + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + + 扩散运动 内电场 E 漂移运动 PN结处载流子的运动 规律 扩散的结果是使空间电 荷区逐渐加宽,使内电 场增强。 内电场越强,就使漂 移运动越强,而漂移 使空间电荷区变薄。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 扩散运动和漂移运动是一对相反 的运动过程,最终二者会达到动 态的平衡,相当于空间电荷区没 有电荷的运动,则空间电荷区的 厚度将不再发生改变。 PN结处载流子的运动 规律 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.2.2 PN结的单向导电性 PN结 加正向电压,即正向偏置: PN结 加反向电压,即反向偏置: P区 加正电压、 N区加负电压。 P区 加负电压 、 N区加正电压。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 PN结正向偏置 呈低阻导通状态 + + + + 外电场减弱内电场,使扩散加强, 扩散 飘移,形成较大的正向 /扩散电流。 空间电荷区变薄 P N + _ 正向电流 下一页总目录 章目录 返回 上一页 PN结反向偏置 呈高阻截止状态 + + + + 空间电荷区变厚 NP +_ + + + + 外电场加强内电场,使扩散停止, 有少量飘移,反向电流很小, A级 。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.3.1 基本结构 PN结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。 P N 阳极 阴极 14.3 二极管 P N 符号 + D 二极管 1N4148 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.3.1 基本结构 按结构分类:有点接触型、面接触型和平面型三类。 点接触型 金锑 合金 面接触型 N型硅 阳极引线 阴极引线 PN 结 底座 铝合金小球 引线 触丝 N 型锗 外壳小功 率 高 频 大 功 率 低 频 下一页总目录 章目录 返回 上一页 按材料分类 :硅管(一般为面接触型)和 锗管(一般为点接触型)。 按用途分类 :普通二极管、整流二极管和 开关二极管。 14.3.1 基本结构 下一页总目录 章目录 返回 上一页 二极管的几种外形 14.3.1 基本结构 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.3.2 伏安特性 u i 导通压降 : 硅管 0.60.8V, 锗管 0.20.3V。反向击穿电压 U(BR) 死区电压: (开启电压) 硅管 0.5V 锗管 0.1V ui E + - 反向饱和电流: 很小, A级 反向 击穿 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.3.3 主要参数 ( 1)最大整流电流 I0M 二极管长时间使用时,所允许通过的 最大正向平均电流。 ( 2)反向工作峰值电压 URWM IRM 一般取反向击穿电压的一半或三分之二。 ( 3)反向峰值电流 二极管加反向工作峰值电压时的 反向电流值。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 二极管的应用 二极管的应用是利用它的 单向 导电性 ,主要应用于整流、检 波、限幅、保护以及在数字电 路中作为开关元件等。 理想二极管 :正向压降为 0, 反向电阻为无穷大。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 例 1: 二极管半波 整流 RLui uO ui uo t t 下一页总目录 章目录 返回 上一页 例 2:二极管的 检波作用 (设 RC时间常数很小) R RLui uR uo t t t ui uR uo C t 1 t2 U 下一页总目录 章目录 返回 上一页 例 3: 电路如图所示,求输出端 Y的电位 VY。设二 极管导通时的压降为 0.3V。 VY = +2.7V 解: DA优先导通, DA导 通后, DB上加的是反 向电压,因而截止。 DA起 钳位 作用, DB起 隔离 作用。 Y -12V A B +3V 0V DB DA R 下一页总目录 章目录 返回 上一页 二极管应用举例 例 4: 试判断图中两个理想二极管的工作状态, 并求出二极管中的电流。 12V A B 3k6V D2 D1 ID2 ID1 + - + - 解: 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.4 稳压二极管 稳压二极管符号 DZ 稳压二极管是一种特殊的面接触型半导体硅二极管。 稳压二极管在电路中与适当阻值的电阻配合后起 稳定电压的作用。 稳压二极管工作在 反向击穿状态 下 ,当工作电流 IZ 在 Izmax 和 Izmin之间时 ,其两端电压近似为常数。 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.4 稳压二极管 IZmax u i UZ IZ 稳压二极管特性曲线 IZmin 正向同 二极管 稳定 电流 稳定 电压 + + 下一页总目录 章目录 返回 上一页 稳压二极管的主要参数 正常工作时管子两端的电压。 一般稳压值高于 6V的为正温度系数,低于 6V 的为负温度系数, 6V左右的稳压管受温度的影响 较小。 稳压管的稳定电流是一个参考值 ,一般给出 最大稳定电流 ( 1) 稳定电压 UZ ( 2) 电压温度系数 ( 3) 稳定电流 IZ IZM。 ( 4) 动态电阻 与最大允许耗散功率rZ PZM 下一页总目录 章目录 返回 上一页 稳压二极管的应用举例 RLui uO R DZ i Iz iL UZ 稳压二极管的技术数据为:稳压值 UZ=10V, Izmax=12mA, Izmin=2mA, 负载电阻 RL=2k, 输入电 压 ui=12V, 限流电阻 R=200 。 若 负载电阻 变化范围 为 1.5 k 4 k , 是否还能稳压? 下一页总目录 章目录 返回 上一页 ui = 12V UZ=10V R = 200 Izmax= 12mA Izmin = 2mA RL= 2k (1.5 k 4 k) iL= uo/RL= UZ/RL= 10/2 = 5mA i = ( ui - UZ) /R =( 12-10) / 0.2 = 10mA iZ = i - iL= 10-5 = 5mA 若 RL=1.5 k , 则 iL= 10/1.5 = 6.7mA, iZ = 10-6.7 = 3.3mA 若 RL=4 k , 则 iL= 10/4 =2.5mA, iZ =10-2.5=7.5mA 负载变化 ,但 iZ仍在 12mA和 2mA之间 ,所以稳压管仍能起稳压作用 RLui uO R DZ i iz iL UZ 下一页总目录 章目录 返回 上一页 几种常见的三极管实物图 (d) 功率三极管 (e) 贴片三极管 14.5 双极型晶体管(三极管) (a) 普通塑封三极管 (b) 金属封装 (c) 金属封装 大功率三极管 小功率三极管 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.5.1 基本结构 B E C N N P 基极 发射极 集电极NPN型 P N P 集电极 基极 发射极 B C E PNP型 下一页总目录 章目录 返回 上一页 发射结 集电结B E C N N P 基极 发射极 集电极 + + + + + + + + + + + + + _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ _ + + + + + + + + + + + + + 下一页总目录 章目录 返回 上一页 B E C N N P 基极 发射极 集电极 基区:最薄, 掺杂浓度最低 集电区: 面积最大 发射区: 掺杂浓度最高 下一页总目录 章目录 返回 上一页 B E C NPN型三极管 B E C PNP型三极管 三 极管 的 符号表示 N P N C B E P N P C B E 硅管( 3D系列) 锗管( 3A系列) 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.5.2 电流分配和放大原理 IC mA A V V UCEUBERB IB EC EB 实验电路 (共发射极接法 ) C B E RC mA IE 下一页总目录 章目录 返回 上一页 晶体管电流测量数据 IB/mA 0 0.02 0.04 0.06 0.08 0.10 IC/mA iC, uCE0.3V称为 饱和区 。 此区域中 iB=0 , iC= iCEO , uBEIC 。 ( UCE0, UBE0.7V) (3) 截止区:发射结和集电结全反偏。 UBE ICS =2 mA , Q位于饱 和区 (此时 IC和 IB 已不是 的关系) 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.5.4 三极管的主要参数 ( 1)电流放大系数:静态 和动态 ( 2)集 -基极反向截止电流 ICBO ( 3)集 -射极穿透电流 ICEO ( 4)集 -射间反向击穿电压 U(BR)CEO ( 5) 集电极最大允许电流 ICM ( 6) 集电极最大允许耗散功率 PCM = ICUCE _ 下一页总目录 章目录 返回 上一页 晶体管的安全工作区 iC(mA ) uCE(V) 安全工作区 ICM PCM U(BR)CEO 下一页总目录 章目录 返回 上一页 14.6.1 发光二极管 14.6 光电器件 在正向电压下工作 下一页总目录 章目录 返回 上

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