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SLIDE # 1,Film Issues薄膜问题 Doug Pelleymounter & Ken Nauman 高级应用工程师,SLIDE # 2,薄膜问题和其它系统的最优方案,用于反应溅射的闭环控制 Lambda 探测仪 残余气体分析仪（RGA） 等离子体发射监控器 (PEM) 外部电压控制 新的 Crystal 电压控制 带有多倍射频供应的公共激励振荡器 (CEX) 和相移 交流阳极下降 气流均匀性 薄膜应力和粘着力 溅射速率 SiO2二氧化硅 结晶控制 厚度 AZO氧化锌铝 vs. ITO 氧化铟锡vs. CdSte 每种陶瓷的成本 (合金, 联合溅射, 等等.),SLIDE # 3,薄膜问题 提问与解答时间,SLIDE # 4,SLIDE # 4,订阅 AE 的 Flat Panel FocusSM 电子新闻,订阅AE的 Flat Panel FocusSM、 PV Sun TimesSM 和 Sputter SpotlightSM电子新闻 ，可以随时掌握当今制造业领域中最迫切的问题，订阅地址： /register.aspx 如需谘询与FPD制造业有关的问题，请发送电子邮件到： FPD 如需谘询与光电（PV=Photovoltaics ）制造业有关的问题，请发送电子邮件到： PVSunT 如需谘询与溅射应用有关的问题，请发送电子邮件到： S,SLIDE # 5, ,NasdaqGM: AEIS,www.advanced-energy.co.kr www.advanced-energy.co.jp,www.advanced-energy.de .tw,ENG-FilmIssues-150-03 9/24/2008,Specifications are subject to change without notice. Advanced Energy, Crystal, Flat Panel FocusSM, PV Sun TimesSM, and Sputter Spotlight are U.S. trademarks of Advanced Energy Industries, Inc. 200
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