杭州格林达 - 科技处.doc

附件1：杭州市企业技术难题需求和开展产学研合作情 况 调 查 表单位盖章： 填写日期：2013年 7 月 18 日一、企业基本情况单位名称杭州格林达化学有限公司所属行业精细化工（电子化学品）通讯地址杭州滨江江晖路1961号隆和国际1501邮政编码310051负 责 人黄源电 话手 系 人梁小朝电 话手 子信箱传真职工人数127专业技术人员数57资产总额（万元）27013主要产品和企业情况简介公司自主研发的电子级四甲基氢氧化铵工艺技术，于2003年获杭州市科技新产品三等奖，在2008年获杭州市科技进步三等奖。该技术的成功，突破国外在该产品及电子级产品技术的垄断。其电子级四甲基氢氧化铵（TMAH）产品质量达到世界一流水平，工艺稳定，产量已达3万吨/年，占有国内市场95%以上，并已成功销往韩国、台湾地区、美国等国际主要市场。公司生产的主产品光刻过程显影液电子级TMAH产品在市场上具有极高的竞争力，已成功取代美国SACHEM,日本TAMA等国外供应商。目前格林达公司产品的销售市场，主要以出口为主，其中韩国市场从2009年的4000吨左右上升到2011年的9000吨左右，增长率超过60%。台湾市场也从2009年的不到2000吨增长到2011年的3300吨左右，年增长率超过20%。目前公司的电子级TMAH销售量占据全球市场的25%以上。国内销售从2009年的1300吨左右增长到2011年的5000多吨，公司产品占据国内市场95%以上，年增长率超过103%。随着TFT-LCD产线不断建成投产，预计电子级TMAH需求量会持续增长。杭州格林达化学有限公司成立于2001年，是由杭州电化集团控股的专业从事光刻工程材料研发、生产、和销售的高新技术企业。公司于2011年通过ISO9001:2008质量管理体系、ISO14001-2004环境管理体系、和OHSAS 18001-2007职业健康安全的三体系认证。公司于2008年已通过国家高新技术企业认定，并在2011年通过复核。公司注册资本为1666.67万元。公司的行政和生产厂区位于杭州萧山临江工业园区红十五线9936号（杭州电化集团内）。并在杭州滨江区江晖路1961号隆和国际设立销售办公室。公司现有员工127人，大专学历以上人员57人，占企业总人数的45%；直接从事技术开发人员57人，占企业总人数的45%；硕士及以上研究生11名,工程师8人。公司已造就了一支高素质的管理队伍，核心团队结构合理，配合默契，专业知识丰富，创新能力与责任意识强，具有良好的开拓创业精神和较强的经营管理能力，在行业中深受好评。企业研发中心建设情况已建中心名称其中中心共建单位中心研发人员数上年中心研发投入（万元）未建光刻工程材料研发中心杭州格林达化学有限公司411924上年度企业经济数据营业收入（万元）销售收入（万元）净利润（万元）上缴税收（万元）购买技术支出(万元)研发投入（万元）2419424194292383001924二、企业近5年来开展产学研合作、引进和转化技术成果情况合作项目名称合作（转让）方合作项目技术交易额，是否实现产业化1、四甲基氢氧化铵的前期研究浙江大学宁波理工学院10万，正在产业化2、含氟废水处理及酸性组分回收利用技术上海交通大学18万，正在产业化3、彩膜光刻胶有机显影液研究上海维亿化学技术有限公司50万，正在开发4、TFT-LCD用缓冲氧化物蚀刻液开发浙江大学10万，正在开发5、三、企业近期希望解决的技术难题、技术产品需求的情况技术及产品需求名称1、 TFT-LCD用铜蚀刻液的开发2、 TFT-LCD用铜剥离液的开发2、多晶ITO蚀刻液开发3、TFT-LCD用铝钼蚀刻液开发需求类别21.解决关键技术难题 2.新产品开发 3.引进科技成果 4.共建研发机构 5、其他需求简介（技术难题和技术产品需求的描述）从TFT-LCD发展趋势看，分辨率要求更好，响应性要求更快；为了达到此要求，目前TFT-LCD行业的领导企业如三星等纷纷将TFT制程中常用的铝改用电阻率更低的铜，并已形成产品，产品效果和市场行情好。在国内各知名企业如京东方也开始使用此工艺。但目前国内尚无企业能提供相关必须的湿化学品如铜蚀刻液、铜剥离液，必须进口，从而造成价格高，供货及时性差。因此开发铜蚀刻液不仅对企业效益有利，更是具有极大的社会效益，有利于推进中国TFT-LCD行业对全球对手的赶超。TFT-LCD用铜蚀刻液的技术难点在于：在TFT制作过程中，一般需要对Mo/Cu/Mo等含铜的多层同时进行蚀刻，而且要求CD-bias，profile达到要求，不能出现分层，底切，taper角过大等现象。而从化学性质看，Mo、Cu等金属性质差异大，氧化还原能力各有不同，从而使蚀刻速率不同，很难达到所需的TFT-LCD工艺要求，因此需要开发合适的蚀刻液，使其对多种金属的蚀刻速率满足要求，从而保证蚀刻结果达到要求。TFT-LCD用铜剥离液的技术难点在于：1. 铜容易氧化、腐蚀，2. 光刻胶以及光刻胶于下层金属接触能力都区别于目前所用的铝剥离液；因此需要开发的剥离液需要满足以下要求：1. 在规定时间内实现剥离完全，2. 对铜金属不腐蚀，3. 适应是TFT-LCD连续生产。多晶ITO层无论是透光性还是导电性都优于非晶ITO，因此采用多晶ITO技术的TFT-LCD性能上大大优于非晶ITO。目前各大TFT-LCD企业渐渐将非晶ITO工艺改为多晶ITO工艺。而我国TFT-LCD上游如电子化学品基础薄弱，目前还无法提供该工艺所必须的ITO蚀刻液，极大的限制了我们TFT-LCD的发展和成本的降低，不过同时也给国内电子化学品企业提供了巨大的商机。多晶ITO蚀刻液的难度在于：目前通用的非晶ITO蚀刻液如草酸系不能将多晶ITO层蚀刻完全，而王水等虽然可以实现蚀刻完全的要求，但蚀刻速率过快，CD bias大；而且化学性质不稳定，对设备腐蚀大。多晶ITO蚀刻液必须同时具备以下性质：1. 在要求时间内蚀刻完全；2. cd bias，taper angle等符合产线要求；3. 性质稳定，适合产线连续生产；4. 便于运输存储，设备损伤小。铝钼多层结构逐渐成为TFT-LCD生产的主流技术，所需的蚀刻液用量大，经济价值高，目前高端的铝钼蚀刻液都需要进口，国家和国内企业对其国产化要求迫切。铝钼蚀刻液的技术难点在于，一方面铝钼等金属电化学性质差异大，氧化能力不同，而另一方面铝钼层的厚度应对于不同的TFT-LCD差异大。因此需要开发一种可以实现：1. 在要求时间内蚀刻完全；2. cd bias，taper angle等符合产线要求；项目基础及支撑条件（包括项目所处阶段、投入资金、人力资源、仪器设备、厂房等）目前以上项目处于研发起步阶段，公司每个项目研发投入均超过200万，并分别成立了相应的研发团队。配备了ICP-MS,IC等必须的各项设备，总价值在600万以上。购买技术费用解决技术难题和引进技术产品希望的投资额 400 万元需求有效期2013年 6 月至2014年 12 月四、企业对专家资源的需求情况希望与省内外哪类高校、科研院所开展产学研合作，共建创新载体1. 熟悉TFT-LCD生产的高校、研究所；2. 熟悉电子化学品等具有强大化工化学技术的各大高校、研究所希望采用何种合作模式技术转让 技术入股 联合开发 委托研发 共建实体对专家及团队所属领域和水平的要求电子行业或化学化工行业；知名学者教授五、企业对引进科技成果转化项目需求情况意向引进或合作的科技成果项目名称1、铝蚀刻废液的回收再利用项目技术指标描述1. 单个金属离子在1ppm以下2. 产品澄清透明对所需成果项目及转让方有何要求所提供技术满足大规模生产要求六、企业对相关信息在浙江网上技术市场发布的要求愿意发布；愿意参加对接活动。其他要求：不愿意，具体原因是：备注：1、请各企业根据实际情况