TEM和SEM的异同比较分析以及环境扫描电镜场知识交流

1、TEM和SEM的异同比拟分析以及环境扫描电镜 ,场发射电 镜与传统电镜相比拟的技术特点和应用xrd是x射线衍射,可以分析物相,SEM是扫描电镜,主要是观察显微组织,TEM是透射电镜,主要观察超限微结构.AES是指能谱,主要分析浓度分布.STM扫描隧道显微镜,也是观察超微结构的.AFM是原子力显微镜,主要是观察外表形貌用的.TEM:透射电子显微镜英语： Transmission electron microscope,缩写 TEM,简称透射电镜,是把经加速和聚集的电子束投射到非常薄的样品上,电子与样品中的原子碰撞而改变方向,从而产生立体角散射.散射角的大小与样品的密度、厚度相关,因此可以形成明暗

2、不同的影像.通常,透射电子显微镜的分辨率为0.10.2nm,放大倍数为几万百万倍,用于观察超微结构,即小于0.2 dm、光学显微镜下无法看清的结构,又称“亚显微结构.TEM是德国科学家 Ruskahe和Knoll在前人Garbor和Busch的根底上于1932 年创造的.编辑本段成像原理透射电子显微镜的成像原理可分为三种情况:吸收像：当电子射到质量、密度大的样品时,主要的成相作用是散射作用样品上质量厚度大的地方对电子的散射角大,通过的电子较少,像的亮度 较暗.早期的透射电子显微镜都是基于这种原理TEM透射电镜0衍射像：电子束被样品衍射后,样品不同位置的衍射波振幅分布对应 于样品中晶体各局部不同

3、的衍射水平,当出现晶体缺陷时,缺陷局部的衍 射水平与完整区域不同,从而使衍射钵的振幅分布不均匀,反映出晶体缺 陷的分布. 相位像：当样品薄至100A以下时,电子可以穿过样品,波的 振幅变化可以忽略,成像来自于相位的变化.编辑本段组件电子枪：发射电子,由阴极、栅极、阳极组成.阴极管发射 的电子通过栅极上的小孔形成射线束,经阳极电压加速后射向聚光镜,起 到对电子束加速、加压的作用. 聚光镜：将电子束聚集,可用于限制照 明强度和孔径角.样品室：放置待观察的样品,并装有倾转台,用以改变试样的角度,还有装配加热、冷却等设备.物镜：为放大率很高的短距透镜,作用是放大电子像.物镜是决定透射电子显微镜分辨水平

4、和成像质量的关键.中间镜：为可变倍的弱透镜,作用是对电子像进行二次放大.通过调节中间镜的电流, 可选择物体的像或电子衍射图来进行放大.透射镜：为高倍的强透镜,用来放大中间像后在荧光屏上成像.此外还有二级真空泵来对样品室抽真空、照相装置用以记录影像.编辑本段应用透射电子显微镜在材料科学、生物学上应用较多.由于电子 易散射或被物体吸收,故穿透力低,样品的密度、厚度等都会影响到最后的成像质量,必须制备更薄的超薄切片,通常为 50100nm.所以用透射电子显微镜观察时的样品需要处理得很薄.常用的方法有：超薄切片法、冷冻超薄切片法、冷冻蚀刻法、冷冻断裂法等.对于液体样品,通常是挂预处理过的铜网上进行观察

5、.编辑本段特点以电子束作光源,电磁场作透镜.电子束波长与加速电压通常50120KV为勺平方根成反比.由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5局部构成.分辨力0.2nm,放大倍数可达百万倍.TEM分析技术是以波长极短的电子束作照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率1nm、高放大倍数的电子光学分析技术；用电镜包括TEM进行样品分析时,通常有两个目的：一个是获得高倍放大倍数的电子图像,另一个是得到电子衍射把戏；TEM常用于研究纳米材料的结晶情况,观察纳米粒子的形貌、分散情况及测量和评估纳米粒子的粒径.是常用的纳米复合材料微观结构的表征技术 之一SEM:扫描电子显微镜 扫描

6、电子显微镜的制造是依据电子与物质的相互作用.当一束高能的入射电子轰击物质外表时,被激发的区域将产生二次电子、 俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在 可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射.同时,也可产生电子-空穴对、晶格振动声子、电子振荡等离子体.原那么上讲,利用电子和物质 的相互作用,可以获取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息,如形 貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等.扫描电子显微镜 是1965年创造的较现代的细胞生物学研究工具,主要是利用二次电子信 号成像来观察样品的外表形态,即用极狭窄的电子束去扫描样品,通过电 子束与样品的相互作用产生各种效应

7、,其中主要是样品的二次电子发射.二次电子能够产生样品外表放大的形貌像,这个像是在样品被扫描时按时 序建立起来的,即使用逐点成像的方法获得放大像.扫描电子显微镜的制造是依据电子与物质的相互作用.当一束高能的入射 电子轰击物质外表时,被激发的区域将产生二次电子、俄歇电子、特征 x 射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在可见、紫外、红外 光区域产生的电磁辐射. 同时,也可产生电子-空穴对、晶格振动声子、 电子振荡等离子体.原那么上讲,利用电子和物质的相互作用,可以获 取被测样品本身的各种物理、化学性质的信息,如形貌、组成、晶体结构、 电子结构和内部电场或磁场等等.扫描电子显微镜正是根据上述

8、不同信息 产生的机理,采用不同的信息检测器,使选择检测得以实现.如对二次电子、背散射电子的采集,可得到有关物质微观形貌的信息； 对x射线的采集, 可得到物质化学成分的信息.正因如此,根据不同需求,可制造出功能配 置不同的扫描电子显微镜.编辑本段功能介绍扫描电子显微镜的制造是依据电子与物质的相互作用. 当一束高能的入射电子轰击物质外表时,被激发的区域将产生二次电子、 俄歇电子、特征x射线和连续谱X射线、背散射电子、透射电子,以及在 可见、紫外、红外光区域产生的电磁辐射.同时,也可产生电子-空穴对、晶格振动 声子、电子振荡 等离子体.原那么上讲,利用电子和物质 的相互作用,可以获取被测样品本身的各

9、种物理、化学性质的信息,如形 貌、组成、晶体结构、电子结构和内部电场或磁场等等.扫描电子显微镜 正是根据上述不同信息产生的机理,采用不同的信息检测器,使选择检测 得以实现.如对二次电子、背散射电子的采集,可得到有关物质微观形貌 的信息；对x射线的采集,可得到物质化学成分的信息.正因如此,根据 不同需求,可制造出功能配置不同的扫描电子显微镜.编辑本段机构组成扫描电子显微镜由三大局部组成：真空系统,电子束系 统以及成像系统.以下提到扫描电子显微镜之处,均用 SEM代替 真空系统真空系统主要包括真空泵和真空柱两局部.真空柱是一个密封的柱形容器.真空泵用来在真空柱内产生真空.有机械泵、油扩散泵以及涡轮

10、分子泵三大类,机械泵加油扩散泵的组合可以满足配置鸨枪的SEM的真空要求,但对于装置了场致发射枪或六硼化镯枪的SEMI,那么需要机械泵加涡轮分子泵的组合.成像系统和电子束系统均内置在真空柱中.真空柱底端即为右图所示的密 封室,用于放置样品.之所以要用真空,主要基于以下两点原因：电子束系统中的灯丝在普通大气中会迅速氧化而失效,所以除了在使用SEM时需要用真空以外,平时还需要以纯氮气或惰性气体充满整个真空柱.为了增大电子的平均自由程,从而使得用于成像的电子更多.电子束系统电子束系统由电子枪和电磁透镜两局部组成,主要用于产生一束能量分布 极窄的、电子能量确定的电子束用以扫描成像.电子枪电子枪用于产生电

11、子,主要有两大类,共三种.一类是利用场致发射效应产生电子,称为场致发射电子枪.这种电子枪极 其昂贵,在十万美元以上,且需要小于10-10torr的极高真空.但它具有至少1000小时以上的寿命,且不需要电磁透镜系统.另一类那么是利用热发射效应产生电子,有鸨枪和六硼化镯枪两种.鸨枪寿命在30100小时之间,价格廉价,但成像不如其他两种明亮,常作为廉价或标准SEM配置0六硼化镯枪寿命介于场致发射电子枪与鸨枪之间,为2001000小时,价格约为鸨枪的十倍,图像比鸨枪明亮510倍,需要略高于鸨枪的真空,一般在 10-7torr以上；但比鸨枪容易产生过度饱 和和热激发问题.电磁透镜热发射电子需要电磁透镜来

12、成束,所以在用热发射电子枪的 SEM上,电磁透镜必不可少.通常会装配两组：会聚透镜：顾名思义,会聚透镜用会聚电子束,装配在真空柱中,位于电 子枪之下.通常不止一个,并有一组会聚光圈与之相配.但会聚透镜仅仅 用于会聚电子束,与成像会焦无关.物镜：物镜为真空柱中最下方的一个电磁透镜,它负责将电子束的焦点汇 聚到样品外表.成像系统电子经过一系列电磁透镜成束后,打到样品上与样品相互作用,会产生次级电子、背散射电子、欧革电子以及 X射线等一系列信号.所以需要不同 的探测器譬如次级电子探测器、X射线能谱分析仪等来区分这些信号以获 得所需要的信息.虽然 X射线信号不能用于成像,但习惯上,仍然将X射线分析系统

13、划分到成像系统中.有些探测器造价昂贵,比方 Robinsons式背散射电子探测器,这时,可以 使用次级电子探测器代替,但需要设定一个偏压电场以筛除次级电子.编辑本段工作原理光学显微镜、TEM、SEM成像原理比拟SEM的工作原理是用一束极细的电子束扫描样品,在样品外表激发出次级 电子,次级电子的多少与电子束入射角有关,也就是说与样品的外表结构 有关,次级电子由探测体收集,并在那里被闪烁器转变为光信号,再经光 电倍增管和放大器转变为电信号来限制荧光屏上电子束的强度,显示出与 电子束同步的扫描图像.图像为立体形象,反映了标本的外表结构.为了 使标本外表发射出次级电子,标本在固定、脱水后,要喷涂上一层

14、重金属 微粒,重金属在电子束的轰击下发出次级电子信号.光学显微镜OM、TEM、SEM成像原理比拟由电子枪发射的电子,以其交叉斑作为电子源,经二级聚光镜及物镜的缩小形成能谱仪获得.具有一定能量、一定束流强度和束斑直径的微细电子 束,在扫描线圈驱动下,于试样外表2材料形貌分析观察作栅网式扫描.聚焦电子束与试样相互作 2.1外表分析用,产生二次电子发射以及其它 物理信号,二外表是指物体的尽端.外表分析是指用次电子发射量随试 样外表形貌而变化.二次电子信号被探测器收集转换成电讯号,经视频放 大后输入到显像管栅极,调制与入射电子束同步扫描的显像管亮度,得到 反映试样外表形貌的二次电子像.编辑本段根本参数

15、放大率与普通光学显微镜不同,在 SEM中,是通过限制扫描区域的大小来限制放大率的.如果需要更高的放大率,只需要扫描更小的一块面积就可以了. 放大率由屏幕/照片面积除以扫描面积得到.所以,SEM中,透镜与放大率无关.场深在SEM中,位于焦平面上下的一小层区域内的样品点都可以得到良好的会焦而成象.这一小层的厚度称为场深,通常为几纳米厚,所以, SEM可以用于纳米级样品的三维成像 作用体积电子束不仅仅与样品表层原子发生作用,它实际上与一定厚度范围内的样品原子发生作用,所以存在一个作用“体积.作用体积的厚度因信号的不同而不同：欧革电子：0.52纳米.次级电子：5人,对于导体,入=1纳米；对于绝缘体,入

16、=10纳米.背散射电子：10倍于次级电子.特征X射线：微米级.X射线连续谱：略大于特征 X射线,也在微米级.工作距离工作距离指从物镜到样品最高点的垂直距离.如果增加工作距离,可以在其他条件不变的情况下获得更大的场深.如果减少工作距离,那么可以在其他条件不变的情况下获得更高的分辨率.通常使用的工作距离在 5毫米到10毫米之间.成象次级电子和背散射电子可以用于成象,但后者不如前者,所以通常使用次级电子 外表分析欧革电子、特征 X射线、背散射电子的产生过程均与样品原子性质有关, 所以可以用于成分分析.但由于电子束只能穿透样品外表很浅的一层参 见作用体积,所以只能用于外表分析.外表分析以特征X射线分析

17、最常用,所用到的探测器有两种：能谱分析仪与波谱分析仪.前者速度快但精度不高,后者非常精确,可以检测到“痕迹元素的存在但耗时太长.编辑本段开展历史* 1873 Abbe和Helmholfz分别提出解像力与照射光的 波长成反比.奠定了显微镜的理论根底.1897 J.J. Thmson 发现电子1924 Louis de Broglie 1929年诺贝尔物理奖得主提出电子本身具有波动的物理特性,进一步提供电子显微镜的理论根底.* 1926 Busch发现电子可像光线经过玻璃透镜偏折一般,由电磁场的改变而偏折.1931德国物理学家Knoll及Ruska首先开展出穿透式电子显微镜原型机.1937首部商业

18、原型机制造成功Metropolitan Vickers牌.* 1938第一部扫描电子显微镜由 Von Ardenne开展成功.193839穿透式电子显微镜正式上市西门子公司,50KV100KM解像力 2030&Aring ;.194041 RCA公司推出美国第一部穿透式电子显微镜解像力50 nm.*194163解像力提升至 23 Å穿透式及100Å扫描式1960 Everhart and Thornley 创造二次电子侦测器.1965 第一部商用 SEM 出现Cambridge1966 JEOL发表第一部商用 SEMJSM

19、11958年中国科学院组织研制1959年第一台100KV电子显微镜1975年第一台扫描电子显微镜 DX3在中国科学院科学仪器厂现北京中科科仪技术开展有限责任公司研发成功1980年中科科仪引进美国技术,开发KYKY1000J3描电镜编辑本段SEM应用生物：种子、花粉、细菌 医学：血球、病毒动物：大肠、绒毛、细胞、纤维材料：陶瓷、高分子、粉末、环氧树脂化学、物理、地质、冶金、矿物、污泥杆菌、机械、电机及导电性样品,如半导体IC、线宽量测、断面、结构观察电子材料等.编辑本段三大组成真空系统,电子束系统以及成像系统.以下提到扫描电子显微镜之处,均用 SEM代替1、真空系统真空系统主要包括真空泵和真空柱

20、两局部.真空柱是一个密封的柱形容器.真空泵用来在真空柱内产生真空.有机械泵、油扩散泵以及涡轮分子泵三大类,机械泵加油扩散泵的组合可以满足配置鸨枪的SEM的真空要求,但对于装置了场致发射枪或六硼化镯枪的SEMI,那么需要机械泵加涡轮分子泵的组合.成象系统和电子束系统均内置在真空柱中.真空柱底端即为右图所示的密封室,用于放置样品.之所以要用真空,主要基于以下两点原因： 电子束系统中的灯丝在普通大气中会迅速氧化而失效,所以除了在使用 SEM时需要用真空以外,平时还需要以纯氮气或惰性气体充满整个真空柱.为了增大电子的平均自由程,从而使得用于成象的电子更多.2、电子束系统电子束系统由电子枪和电磁透镜两局

21、部组成,主要用于产生一束能量分布极窄的、电子能量确定的电子束用以扫描成象.电子枪电子枪用于产生电子,主要有两大类,共三种.一类是利用场致发射效应 产生电子,称为场致发射电子枪.这种电子枪极其昂贵,在十万美元以上, 且需要小于10-10torr的极高真空.但它具有至少 1000小时以上的寿命, 且不需要电磁透镜系统.另一类那么是利用热发射效应产生电子,有鸨枪和 六硼化镯枪两种.鸨枪寿命在 30100小时之间,价格廉价,但成象不如 其他两种明亮,常作为廉价或标准 SEM配置.六硼化镯枪寿命介于场致发 射电子枪与鸨枪之间,为 2001000小时,价格约为鸨枪的十倍,图像比 鸨枪明亮510倍,需要略高

22、于鸨枪的真空,一般在 10-7torr以上；但比 鸨枪容易产生过度饱和和热激发问题.电磁透镜热发射电子需要电磁透镜来成束,所以在用热发射电子枪的 SEM上,电磁透镜必不可少.通常会装配两组：会聚透镜：顾名思义,会聚透镜用会聚电子束,装配在真空柱中,位于电 子枪之下.通常不止一个,并有一组会聚光圈与之相配但会聚透镜仅仅用于会聚电子束,与成象会焦无关.物镜：物镜为真空柱中最下方的一个电磁透镜,它负责将电子束的焦点汇聚到样品外表.3、成像系统电子经过一系列电磁透镜成束后,打到样品上与样品相互作用,会产生次级电子、背散射电子、欧革电子以及X射线等一系列信号.所以需要不同的探测器譬如次级电子探测器、X射

23、线能谱分析仪等来区分这些信号以获 得所需要的信息.虽然 X射线信号不能用于成象,但习惯上,仍然将 X射 线分析系统划分到成象系统中.有些探测器造价昂贵,比方 Robinsons式背散射电子探测器,这时,可以 使用次级电子探测器代替,但需要设定一个偏压电场以筛除次级电子.编辑本段应用情况扫描电子显微镜在新型陶瓷材料显微分析中的应用1显微结构的分析在陶瓷的制备过程中,原始材料及其制品的显微形貌、孔隙大小、晶界和 团聚程度等将决定其最后的性能.扫描电子显微镜可以清楚地反映和记录这些微观特征,是观察分析样品微观结构方便、易行的有效方法,样品无需制备,只需直接放入样品室内即可放大观察；同时扫描电子显微镜

24、可以实现试样从低倍到高倍的定位分析,在样品室中的试样不仅可以沿三维空 间移动,还能够根据观察需要进行空间转动,以利于使用者对感兴趣的部位进行连续、系统的观察分析.扫描电子显微镜拍出的图像真实、清楚,并富有立体感,在新型陶瓷材料的三维显微组织形态的观察研究方面获得 了广泛地应用.由于扫描电子显微镜可用多种物理信号对样品进行综合分析,并具有可以 直接观察较大试样、放大倍数范围宽和景深大等特点,当陶瓷材料处于不 同的外部条件和化学环境时,扫描电子显微镜在其微观结构分析研究方面 同样显示出极大的优势.主要表现为：力学加载下的微观动态裂纹扩展研究；加热条件下的晶体合成、气化、聚合反响等研究；晶体生长机理

25、、生长台阶、 缺陷与位错的研究； 成分的非均匀性、壳芯结构、包裹结构的研究； 晶粒相成分在化学环境下差异性的研究等.2纳米尺寸的研究纳米材料是纳米科学技术最根本的组成局部,现在可以用物理、化学及生 物学的方法制备出只有几个纳米的“颗粒纳米材料的应用非常广泛,比方通常陶瓷材料具有高硬度、耐磨、抗腐蚀等优点,纳米陶瓷在一定的 程度上也可增加韧性、改善脆性等,新型陶瓷纳米材料如纳米称、纳米天 平等亦是重要的应用领域.纳米材料的一切独特性主要源于它的纳米尺寸, 因此必须首先确切地知道其尺寸,否那么对纳米材料的 研究及应用便失 去了根底.纵观当今国内外的研究状况和最新成果,目前该领域的检测手段和表征方法

26、可以使用透射电子显微镜、扫描隧道显微镜、原子力显微镜等技术,但高分辨率的扫描电子显微镜在纳米级别 材料的形貌观察和尺寸检测方面因具有简便、可操作性强的优势被大量采 用.另外如果将扫描电子显微镜与扫描隧道显微镜结合起来,还可使普通的扫描电子显微镜升级改造为 超高分辨率的扫描电子显微镜. 图2所示是纳米钛酸领陶瓷的扫描电镜照 片,晶粒尺寸平均为 20nm o3铁电畴的观测压电陶瓷由于具有较大的力电功能转换率及良好的性能可调控性等特点 在多层陶瓷驱动器、微位移器、换能器以及机敏材料与器件等领域获得了 广泛的应用.随着现代技术的开展,铁电和压电陶瓷材料与器件正向小型 化、集成化、多功能化、智能化、高性能和复合结构开展,并在新型陶瓷 材料的开发和研究中发挥重要作用.铁电畴简称电畴是其物理根底,电畴的结构及畴变规律直接决定了铁电体物理性质和应用方向.电子显微 术是目前观测电畴的主要方法,其优点在于分辨率高,可直接观察电畴和 畴壁的显微结构及相变的动态原位观察电畴壁的迁移.扫描电子显微镜观测电畴是通过对样品外表