镀膜员工试题库填空题

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1.关机时,关掉扩散泵加热，需要冷却60分种以上时间才可以关掉总电源2.我们正常镀膜过程中镜片需要镀膜的一面应当向下放置。3、写出+XP的意思向正方向调X方向位置

4.新科隆机SID1100中生产IRCUT滤色片,每层开镀时,TiO2材料的起始光控曲线方向向上,SiO2材料的光控曲线方向向下。

5.新科隆机SID1100中的离子源,有3片栅极,从上到下依次为TOP,MID,BOT;栅极间总共有12片陶瓷片绝缘.

6.现在我们使用的镀膜机光学控制方式有反射式和透射式两种,昭和机属于透射式新科隆机属于反射式，光驰机属于反射式。

7.一致蒸发条件下，饼料的SIO2，和颗粒状的SIO2，饼料的SiO2所需的蒸发功率要高。

8.比较以下膜料正常蒸发功率，由大到小排列：MgF2H4SiO2H4>SiO2>MgF29.选择以下光学原理：a、光的反射原理b、光的折射原理c、光的干扰原理d、光的投射原理（1）看到水中筷子是弯曲的,利用光的b（2）看到镜子里自已像，利用光的a（3）光学薄膜利用光的c

1０.真空可以大致分为四段，分别为初真空、低真空、高真空、超高真空

1１.在真空的定义范围内，高真空度范围是10-1-10-6Pa

1２.电子枪分为180°枪和270°枪，而目前韩一机器的电子枪180度，光驰机器的电子枪180度，昭和机器的电子枪270度，新柯隆机器的电子枪180度，

1３.镜片放到镀膜机后，关门加热抽真空，等到真空度和温度到达，两者都满足设定要求后，机器才能开始镀膜。

1４．目前我们镀膜机有两种厚度控制方法：晶振控制和光控控制、1５．昭和机器在没有放光控监控片下镀膜时，光控曲线直线形状16、报警程序中PFC报警，其中PFC含义：POLYCOLD

17、当扩散泵指示灯闪烁时说明扩散泵还在加热中，还不能开启高阀。

18、当扩散泵指示灯不闪烁时说明扩散泵已加热完成，可以正常工作。19、写出-YS的意思减少Y方向电子枪光斑大小

20、目前我们镀膜机抽真空系统由机械泵、罗茨泵、扩散泵组成21、镀膜机中,膜层厚度的记录单位是:埃（A）,与米(m)的换算关系是:10-10,速率的单位是:A/S.

22、保持镀膜机开门时间尽可能的短，是为了防止真空室内部的护板吸附空气中的水汽，使镀膜机的抽速变慢，影响产品的品质。

23、薄膜微观结构是柱状结构，为了改善膜层结构，提高聚集密度，分别出现了三种成膜工艺离子辅助、反应离子镀、溅射

24光学镀膜机真空排气系统中，机械泵排气原理：机械压缩排除气体扩散泵排气原理：靠蒸汽射流携带排除气体

25、POLYCOLD工作原理：利用低温表面对气体进行物理吸附排气

26、写出以下薄膜种类符号：（1）减反膜（2）、分束膜（3）内反射（4）偏振膜

27、写出以下真空度转换关系：1Pa=10-2Mbar=0.75E-2Torr1Torr=133Pa=1.33Mbar

28、镀单层MgF2,目前镀的是500nm，晶振厚度是1000A，而现在需要镀550nm，那么输入晶振厚度约为1100A

29、该层晶振厚度是800A，现已镀了150A，由于某种原因充气而需要加镀，那么加镀晶振厚度是650A

30、写出镀膜机各控制阀门的中文名称：MV高阀DP扩散泵RV粗抽阀SLV细充气阀FV辅助阀

31、光学玻璃BK7折射率为1.517,则该玻璃表面单面反射率是4.219%。32、真空规管测量原理通过气体放电方式产生电子，通过磁场使电子获得能量将气体分子电离

33、石英晶体控制原理主要是利用了石英晶体的两个效应，即压电效应和质量负荷效应。

34、长波通膜系基本结构公式A/(0.5HL0.5H)^p/G短波通膜系基本结构公式A/(0.5LH0.5L)^p/G

35、现配有2把电子枪，面向机器左边为EB1,右边为EB2.36、正常新晶振的频率为6MHz左右.

37、一般状况下,真空达到7.0Pa以上,高阀才会自动开启,5E-3Pa时,可以预熔膜料.

38、开机时,扩散泵中的油温需加热到250℃左右,扩散泵才能抽真空39、氧气瓶中氧气的压力须大于3KG.

40、若一个膜系40层,每个光控片控制2层膜,再备2片余量,总共需要放22片光控片.

41、镀膜机开机前必需检查冷却水,压缩空气,电是否正常,是否稳定供应.42、晶振冷却水的进水温度要求是：18~25℃

43、写出以下膜料分子式：二氧化硅SiO2氟化镁MgF2二氧化钛TiO2氧化铝AL2O3

44、写出以下膜料分子式的名称：Ta2O5五氧化二钽Nb2O5五氧化二钕SiO一氧化硅MgO氧化镁

45、韩一镀膜机有2个晶振头，外边为1号，里边为2号。46、在点检机械泵、罗茨泵部件，必需查看油位是否满足标准要求47、开启镀膜机时，必需给扩散泵预加热60分钟后才能用扩散泵抽真空48、清冼电子枪、规管或离子源等部件，必需戴手套进行操作

49、利用光控控制镀膜机，一般在每炉摆放监控片数量必需多于程序中设定数量2片才可以关门。

50、在取放昭和机器光控片时，每个光控套筒里摆放1片清白、无伤痕监控片。51、镀膜人员在机器罩子上取放镜片时，一定要戴口罩。

52、晶振片和镀膜材料应放在枯燥器中的目的是：防止在空气中受潮。53、有2块修正板的镀膜机，面向机器左边为MASK1,右边为MASK2。54、写出以下中、英名称：晶振crystalCoating镀膜真空vacuumOptical光学

55、开镀膜机之前，先需检查压缩空气压力在_5-8____公斤56、开启稳压电源，稳压电压值应为___380___V左右。57、开镀膜机之前，检查水压3-5公斤.

58、光控控制的镀膜机蒸镀过程中光控曲线方向为：反射式控制的高折射率材料蒸镀方向向上；

59、机器大清洗后应进行抽真空和加热处理，才能正常生产。60、我们现在的镀膜方式属于热蒸发方式。

二、选择题(不定项选择题)

1.在镀膜过程中,石英晶振可以显示以下哪些因素?(AD)A、蒸发速率B、蒸发温度C、真空度D、膜层厚度

2．材料蒸发时，充氧的主要目的有哪些？（AB）A、补充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜层吸收B、使每次镀膜时，真空室内的真空状态相接近C、使蒸发更稳定D、使控制更确切。

3．镀膜机罩子或放扇形板的转动架须高速转动的目的是（ABCD）A、使同圈的膜层厚度分布均匀B、使内外排膜层厚度分布均匀C、使同圈温度分布均匀D、使内外排温度分布均匀

4、现在我们生产Ir-cut平板滤色片，从反射看平板的颜色是（A）A、红色B、绿色C、蓝色D、没有规律

5、油扩散泵上面加冷阱,其作用是(AD).A.防止扩散油分子回流到真空室B.加快排氣速度.C.防止杂物掉入扩散泵.D、提高膜层附着力

6、为使蒸发材料分子从蒸发源到达基板时基本不和剩余气体分子发生碰撞，故真空室内真空度要到达10-3Pa以下,以满足(B)条件A、气体分子平均自由程小于蒸发距离.B、气体分子平均自由程远大于蒸发距离C、气体分子平均自由程等于蒸发距离。D、气体分子平均自由程的平方大于蒸发距离。

7、对镀膜材料进行预熔的目的是（AC）A、去除材料内部的杂质B、改变材料的表面形状C、减少材料的放气D、提高材料的温度

8、真空镀膜时真空度范围应在（C）A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空

9、电子枪“FIL〞灯变红，故障原因是（C）A、电子枪高压线路故障B、真空室底下门没有关好C、电子枪灯丝有问题D、电子枪电流回路故障。10、提高膜层聚集密度工艺有（AD）A、提高离子源功率B、降低温度C、降低真空度D、提高温度

11、黄色互补色是（B）A、绿色B、蓝色C、红色D、紫红色

12、加强膜层和镜片附着强度，以下那些因素有关（ABCD）A、镜片表面清洁度B、镜片表面温度C、真空室内清洁度D、膜层材料

13、镀650±10IR-CUT滤色片，请问镀出在哪个波长范围内合格（B）A、640~660nmB、640~655nmC、630-660nmD、635-660nm

14、在可见光光谱中，绿色波长范围是（D）A、600-570B、500-450C、630-600D、570-500

15、SID1100的离子源中和器正常工作时,需要以下哪些气体?(AC)冷却时需要什么气体?(C)A、氧气(O2)B、氮气(N2)C、氩气(Ar)D、氦气(He)16、镀膜镜片表面产生杂质，以下哪些是可能原因？（ABCD）A、材料本身不纯，有杂质B、预熔时没熔透，镀膜时有飞溅C、光斑打到边缘或外边，将其它物质镀到镜片上D、坩埚盖板太脏，预熔时有膜料残渣掉进坩埚

17、镀膜机抽速慢，以下哪些可能会引起？（ABCD）A、各类泵油使用时间太长，已变质B、POLYCOLD有问题C、真空室的清洁不到位D、机器有漏气18、真空室内部清扫不清白，可能会导致以下哪些结果？（ABCD）A、机器抽速慢B、零件表面灰尘C、机器效率降低D、分光特性不重复

19、以下哪些因素影响内外排的均匀性?(ABD)A、电子枪光斑的位置B、电子枪光斑的形状、大小C、真空度不稳定D、修正板的形状和上升高度.20、正常状况下,真空室内部清洗清白后,机器的抽气速度将(B)A、变慢B、变快C、不变D、无法判断。

21、电子枪灯丝变形，可能有以下哪些结果？（ABCD）A、电子枪光斑变形，位置打偏B、内外排分布不均匀C、分光特性不良D、产生杂质

23、在一致光斑大小和蒸发速率的状况下，AL2O3电子枪功率（A）SiO2电子枪功率A、大于B、小于C、等于D、不知道

24、以下属于镀膜机粗抽阀门符号是（C）A、LVB、SLVC、RVD、SRV

三、简答题。

1．简述在镀膜过程中产生杂质的原因和对策？

答：原因对策1.电子枪周边没有清洁清白用吸尘器、百洁布等清冼电子枪部件2坩锅没有清冼清白坩锅边缘用百洁布、酒精、纱布清冼清白3镀膜时电子枪光斑不在中间而打到边缘镀膜时必需把电子枪光斑打到中间而不能打偏4预熔材料不透彻把膜料充分地预熔透彻5预熔膜料电流加得太快加电流要缓慢，不要加的太快6.电子枪档板不清白每罩要更换电子枪档板，以及电子枪档板要清冼清白7.膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不纯更换其它品种膜料

2．从操作角度来看，如何操作和保养才能让一台镀膜机的膜系稳定？答：此题是员工自由发挥题目，没有明确答案，可以从以下三个方面考虑：1、如何依照作业指导书进行操作？2、如何维护设备日常保养？3、在镀膜时出现问题时，怎样去解决这些问题？3．简述一下镀金属膜本卷须知？答：高的真空度、低基板温度、快蒸4、在使用扩散泵应注意那些事项？

答1、冷却水不足，必需关闭扩散泵，否则轻则会造成返油，重则会使扩散泵过热造成扩散泵油烧焦。（机器若有自动保护装置，会自动中止扩散泵加热，并报警）2、扩散泵必需在低真空阀关闭，预抽阀开启，且系统真空高于真空室真空时才能开启，否则会造成真空室返油

5、光控控制的机器在镀TIO2，光控程序设定为START90PERK1STOP10,而现在的光控曲线镀到80时突然报警，而必需退出程序重新加镀，请问如何设置程序进行加镀？

答：首先把START值从90改到80，然后重新加镀这一层，读出极值点数值，这时过振量应当这样计算STOP值=（终止值-PERK值）/（90-PERK值）*1006、为什么要在高真空下镀膜？

答：1、真空状态下，膜料的熔点温度和蒸发温度要比在大气状态下低得多。对高熔点的氧化物膜料，在真空状态下其熔点要低得多。也就简单到蒸发温度而不需太高的能量。2、真空状态下，真空室中空气极少，膜料分子从蒸发源到达基片表面的路程中几乎不与残留在真空室中的气体分子碰撞，即分子自由程长。膜料简单沉积在基片上。3、由于真空室中气体分子少，因而氧分子、硫分子等化

学活泼分子也少，高温状态的膜料分子就不会与之发生化学变化，从而保证膜层的膜料纯度。

7、晶振水堵塞后你怎么进行疏通?

答：把晶振冷却水管进口、出口从连接处断开，并把阀门关上，用压缩空气气枪从进口处吹入压缩空气，看出口处是否有异物流出？

8、镀膜机在自动镀膜时发生报警，而作为一名操作员工应如何处理报警？答：首先按报警暂停按纽，查看报警内容，看自已是否知道？能否自已解决？如不能自已解决，查看作业指导书是否有，如没有向线长汇报，由线长再向技术人员询问如何解决，直到报警内容消除后才能按继续镀膜的键。

9、利用光控控制，上一罩镀出IR-CUT，测试曲线波长最长672nm、最短是666nm,而现在要镀650±10IR-CUT滤色片，请问如何更改参数？答：=所有光控控制波长×650/67210．根据你的工作经验，从外表看，如何区分AL2O3和MGF2材料？答：从形状来看：AL2O3颗料比较有梭角，MGF2膜料更碎；从颜色来看：AL2O3的颜色要暗一些，MGF2的颜色要亮一些。

11．作为一名交班者，你个人认为应当让接班者明白哪些事情,同时作为一个接班者你个人认为应当从前一班中明白哪些事情？

答：此题是员工发挥题，可以从以下几个方面答题1、本班在上班时，生产那些产品，以及用的什么膜系来镀膜的？2、在本班期间出现了那些问题，用什么方法来解决的？以及要注意那些问题，这些都要交给下个班，也需要下个班来询问这些问题。3、上个班有那些试制需要下个班来完成，把被交待状况详细交给下过班。

12．简述一下镀膜机的开机及关机过程。

答：开机冷却水和压缩空气检查开稳压电源开机器总电源加热扩散泵开电子枪电源开启光控电源开记录仪开关开晶振开关开启电脑关机：清洁机器抽真空关扩散泵关电子枪电源关光控电源关记录仪开关关晶振开关关电脑关总电源

13．在镀膜之前为什么要预熔材料？

答：在镀膜之前要把材料预熔透彻，主要是为了材料进行放气，消除材料中其它成份，保持镀膜不产生飞溅和保持真空度稳定。14、在镀膜上伞镜片之前，我们应注意和确认那些项目？

答：1票物相符2可否同罩3是否是被镀膜面4膜料与程序里的坩埚号是否对应5档板的平稳，有无松动6晶片的寿命及活性值。7电子枪寿命及有无异物8光控片是否够用