CN116606312B 一种基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂及制备方法及应用 （西北工业大学）

WO2011037894A1,2011.0一种基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂及制备方法及应用本发明提供了一种基于氮杂氟硼二吡咯的6位碳原子上引入给电子基团(噻吩碳链)来增强22.根据权利要求1所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特加热回流进行第三次反应，获得中间产物Ⅴ,将中间产物Ⅴ倒入冰水中淬灭反应，随后萃束后抽滤获得中间产物Ⅶ;S6：将中间产物OB、干燥的二氯甲烷混合后加入用干燥3.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特34.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特5.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特6.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特7.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特8.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特9.根据权利要求2所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备方法，其特10.一种根据权利要求1所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂在制备光热4敏剂及制备方法及应用。原位治疗的综合优势而受到广泛关注。光热疗法(Phototherma有能量通过系间穿越的方式到达染料分子的T能态与底物或氧产生能量转移5[0009]本发明提供了一种根据所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂的制备加热回流进行第二次反应，获得中间产物Ⅲ,将中间产物Ⅲ倒入冰水中淬灭反应，随后萃应结束后抽滤获得中间产物Ⅶ;6[0026]本发明还提供了一种根据所述的基于氮杂氟硼二吡咯的近红外二区光敏剂在制位碳原子被氮原子取代的一类BODIPY类似物。Aza‑BODIPY的发射光谱主峰位于近红外二密度泛函理论time‑dependentdensityfunctiontheory(TD‑DFT)确定光敏剂分子OB578间产物W与乙酸铵的摩尔比为1：10。中间产物Ⅷ,将反应后的物质倒入饱和氯化钠水溶液中淬灭反应，随后加入二氯甲烷进行ul22气氛下置换3次，接着将反应加热到95~105℃,12~24h反9Laser处理后HeLa细胞的细胞周期，由图可知OB5@NPs+Laser诱导HeLa细胞的细胞周4.5mL）在冰盐浴条件下缓慢滴加到盛有N，N二甲基甲酰胺 Hz,[0065]步骤五，制备OB：在25mL双口瓶中加入上述产物（20mg，0.0273mmol，12保护下缓CDCl3)δ/ppm739.68.[0066]步骤六，制备OB_2Br：在50mL圆底烧瓶中加入OB（20mg，0.0270mmol，1HNMR(400MHz,CDCl3)δ/ul2HNMR4.5mL）在冰盐浴条件下缓慢滴加到盛有N，N_二甲基甲酰胺[0074]步骤五，制备OB：在25mL双口瓶中加入上述产物（20mg，0.0273mmol，12保护下缓[0075]步骤六，制备OB一2Br：在50mL圆底烧瓶中加入OB（20mg，0.0270mmol，1ul24.5mL）在冰盐浴条件下缓慢滴加到盛有N，N二甲基甲酰胺[0083]步骤五，制备OB：在25mL双口瓶中加入上述产物（20mg，0.0273mmol，12保护下缓[0084]步骤六，制备OB一2Br：在50mL圆底烧瓶中加入OB（20mg，0.0270mmol，1ul24.5mL）在冰盐浴条件下缓慢滴加到盛有N，N二甲基甲酰胺[0092]步骤五，制备OB：在25mL双口瓶中加入上述产物（20mg，0.0273mmol，12保护下缓[0093]步骤六，制备OB_2Br：在50mL圆底烧瓶中加入OB（20mg，0.0270mmol，1ul2密度泛函理论time_dependentdensityfunctiontheory(TD_DFT)确定光敏剂分子OB5光热性能的浓度依赖性，不同浓度的OB5@NPs在功率密度为0.2W/cm2