稀土抛光粉研磨性能研究

稀土抛光粉研磨性能研究

玻璃研磨是在一定的研磨机床上完成的，通过玻璃和研磨模层的接触，完成了研磨粉和水提取物的综合处理。抛光的过程是一个复杂的过程,对于抛光的机理,目前还没有统一的理论,近几十年来主要形成了三种学说玻璃抛光的目的是为了除去在研磨加工中玻璃表面所生成的凹凸不平层和各种裂纹,完成所需表面的几何形状,并形成一个高度光滑的表面,呈现均匀和谐的光泽,对电子仪器等要求光学性能较高的玻璃来说,这是玻璃加工的最后一道工序,对抛光粉的要求也非常严格,因此,能否正确评判抛光粉质量的好坏也是一个非常重要的环节。本文研究的H-500型稀土抛光粉是以碳酸稀土为原料1实验部分1.1稀土抛光粉reoH-500稀土抛光粉REO≥93%1.2加料及研磨温度:室温25℃左右加料方式:自动搅拌、自动加料抛光件:SF-5、玻壳平面玻璃、Φ50mm抛光模层:氧化铈聚胺脂研磨毡将H-500型稀土抛光粉调浆后按上述条件对平面玻璃进行研磨。1.3因素水平表以下简称三水平使用正交试验设计,找出影响抛光粉研磨效果的质量指标参数,确定三个变化因子为:A,研磨时间;B,抛光液浓度;C,研磨转速。取三水平即可看出其变化规律,因素水平表见表1。为了能够找到变化固子对研磨效果的影响程度,实验使用正交试验设计方案,由于是三水平因素,所以采用三水平正交表,即L对应L2检测方法2.1抛光粉研削力的测定研削力是检测稀土抛光粉研磨效果的一项重要指标,用XD-1型抛光机在固定抛光条件下,通过称量单位面积内玻璃重量的减少,计算出抛光粉的研削力。2.2x灯下观察在40万LUX灯下观察抛光件表面的光洁度和划痕情况。3结果与讨论3.1其他影响因素的影响根据上述正交试验方案,对于不同因子,不同水平共做了9次实验,具体试验数据和计算分析结果见表4。由表4可以看出,在A1、A2、A3所在的各组实验中,其他因素B、C的1、2、3水平都分别出现了一次,通过极差分析可知,因素A、B对研磨的影响较大,因此,足够的研磨时间和保持一定的抛光液浓度是保证高效研磨的重要条件。通过计算分析结果可以为我们进一步试验找出方向,并根据高效、适用的原则选取合适的试验条件。3.2抛光剂的研磨作用图1为不同研磨时间下,在固定抛光液浓度和研磨转速的条件下,抛光粉对抛光件的研磨能力变化。从图1可以看出,抛光能力与研磨时间成直线关系,随着时间的增加,研削能力增加,在达到一定时间后研削力变化不大,主要是因为抛光与精磨不同,抛光需要呈现光滑面,在呈现出抛光面以后,抛光剂颗粒开始与玻璃表面进行分子接触,由于抛光粉具有一定的化学活性,易于通过化学的吸附作用把玻璃表面的硅胶凝层连接起来,随着时间的增加抛光剂的微晶体发生断裂,不断暴露出高能量的晶格缺陷,这些缺陷瞬间即与玻璃表面进行分子接触,粘合硅胶凝层,从而使抛光能力增加,但达到一定时间后,随着玻璃表面的光滑,抛光剂浆体趋于饱和,从提高效率的角度出发,不必无谓延长时间。因此,选择研磨时间为40分钟。3.3抛光液浓度对抛光粉研削力的影响在固定抛光转速,用不同浓度的抛光液进行研磨试验40分钟,所得的抛光粉研削力见图2。由图2可见,随着抛光液浓度的增加,抛光粉的研削力增大,但在浓度达到20%左右研削力达到最大值,随着浓度的继续增加,抛光能力反而下降,说明对抛光剂来说,固液比在一个合适的条件下,才能发挥出最大效应。因此,足够的研磨时间和恰当的抛光液浓度对抛光性能有决定性的影响。3.4研磨转速对玻璃研磨效果的影响在固定抛光液浓度20%,研磨时间为40分钟,改变研磨转速所得的抛光粉的研削力见图3。由图3可以看出,随着抛光转速的增加,抛光粉的研削力不断增加,当转速达到60转/分时,其研削力就没有明显变化,因此,选择一定的研磨转速就可达到要求的研磨效果,而不必无谓地增加机械消耗。通过对研磨过的平面玻璃在40万LUX灯下进行观察,可以直接观察到玻璃的划伤情况,能够直接反映出抛光粉的研磨效果,从而判定出抛光粉的质量好坏,对H-500型稀土抛光粉在调浆浓度20%、抛光转速60转/分条件下进行研磨实验40分钟,所得镜片在40万LUX灯下观察玻璃表面光滑而且没有划痕。由此可见,在生产试验中使用SF-5研磨体来检测产品,产品抛光性能稳定,而且在对玻壳研磨时研磨效果也非常稳定。4转速60转/分、研磨时间及转速(1)