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素养:价类二维转化思想——从石英砂到硅芯片命题特点:物质类别与共性应用,元素化合价与物质化学性质联系。(1)类别观:结合物质的类别、性质分析试验(防水型、防氧化型等);(2)价态观:SiO2→Si(SiC)→SiCl4→Si。1.华为麒麟9905G芯片是全球首款旗舰5GSoC芯片。2.制备芯片的基体材料是高纯硅。自然界中不存在单质硅,工业上常从石英砂中提取粗硅,再经过提纯得到多晶硅和单晶硅。1.[结合传统文化考查硅及其化合物的性质][全国Ⅰ高考]陶瓷是火与土的结晶,是中华文明的象征之一,其形成、性质与化学有着亲密的关系。下列说法错误的是(A)A.“雨过天晴云破处”所描述的瓷器青色,来自氧化铁B.著名世界的秦兵马俑是陶制品,由黏土经高温烧结而成C.陶瓷是应用较早的人造材料,主要化学成分是硅酸盐D.陶瓷化学性质稳定,具有耐酸碱侵蚀、抗氧化等优点解析氧化铁显红色,“雨过天晴云破处”所描述的瓷器青色与氧化亚铁有关,A项错误;秦兵马俑是陶制品,由黏土经高温烧结而成,B项正确;陶瓷以黏土为原料,经高温烧制而成,属于人造材料,主要成分是硅酸盐,C项正确;陶瓷的主要成分是硅酸盐,硅酸盐中硅元素处于最高价,化学性质稳定,具有耐酸碱侵蚀、抗氧化等优点,D项正确。2.[结合科技材料考查硅及其化合物的性质][2024大同模拟]高纯度单晶硅是典型的无机非金属材料,又称“半导体”材料,它的发觉和运用曾引起计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备:下列说法正确的是(D)A.由步骤①可以得出C的还原性大于SiB.步骤①②③中生成或消耗1molSi,均转移2mol电子C.二氧化硅能与氢氟酸反应,而硅不能与氢氟酸反应D.SiHCl3(沸点33.0℃)中含有少量的SiCl4(沸点67.6℃),可通过蒸馏提纯SiHCl3解析A项,Si和C同主族,Si的还原性比C的强,但在高温下能发生反应SiO2+2C高温Si+2CO↑,错误。B项,步骤①中生成1molSi,转移4mol电子,步骤②中生成1molSiHCl3,消耗1molSi,转移4mol电子,步骤③中生成1molSi,转移4mol电子,错误。C项,硅能与氢氟酸反应生成SiF4和氢气,错误。D项,SiHCl3和SiCl4的沸点相差较大,可以接受蒸馏的方法分别,正确。3.[粗硅到多晶硅的提纯中热力学和动力学的应用][天津高考]多晶硅是制作光伏电池的关键材料。以下是由粗硅制备多晶硅的简易过程。回答下列问题:Ⅰ.硅粉与HCl在300℃时反应生成1molSiHCl3气体和H2,放出225kJ热量,该反应的热化学方程式为Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)ΔH=-225kJ·mol-1。SiHCl3的电子式为。Ⅱ.将SiCl4氢化为SiHCl3有三种方法,对应的反应依次为:①SiCl4(g)+H2(g)⇌SiHCl3(g)+HCl(g)ΔH1>0②3SiCl4(g)+2H2(g)+Si(s)⇌4SiHCl3(g)ΔH2<0③2SiCl4(g)+H2(g)+Si(s)+HCl(g)⇌3SiHCl3(g)ΔH3(1)氢化过程中所需的高纯度H2可用惰性电极电解KOH溶液制备,写出产生H2的电极名称:阴极(填“阳极”或“阴极”),该电极反应方程式为2H2O+2e-H2↑+2OH-。(2)已知体系自由能变ΔG=ΔH-TΔS,ΔG<0时反应自发进行。三个氢化反应的ΔG与温度的关系如图1所示,可知:反应①能自发进行的最低温度是1000℃;相同温度下,反应②比反应①的ΔG小,主要缘由是ΔH2<ΔH1,导致反应②的ΔG小。图1(3)不同温度下反应②中SiCl4转化率如图2所示。下列叙述正确的是ac(填序号)。图2a.B点:v正>v逆b.v正:A点>E点c.反应相宜温度:480~520℃(4)反应③的ΔH3=ΔH2-ΔH1(用ΔH1、ΔH2表示)。温度上升,反应③的平衡常数K减小(填“增大”“减小”或“不变”)。(5)由粗硅制备多晶硅的过程中循环运用的物质除SiCl4、SiHCl3和Si外,还有HCl、H2(填分子式)。解析Ⅰ.该反应的热化学方程式为Si(s)+3HCl(g)SiHCl3(g)+H2(g)ΔH=-225kJ·mol-1。SiHCl3的结构式为,故电子式为。Ⅱ.(1)用惰性电极电解KOH溶液,实质为电解水,阴极上产生氢气,电极反应式为2H2O+2e-2OH-+H2↑。(2)ΔG<0时,反应能自发进行,故反应①自发进行的最低温度为1000℃。由于ΔG=ΔH-TΔS,反应②的ΔH2<0,而反应①的ΔH1>0,ΔH2<ΔH1,ΔS1>ΔS2,因此相同温度下反应②比反应①的ΔG小的主要缘由为ΔH2<ΔH1。(3)a项,同一点比较正逆反应速率看反应进行方向,B点反应正向进行,所以v正>v逆,正确;b项,不同点比较正逆反应速率看反应条件,A点温度低于E点温度,所以v正:A点<E点,错误;c项,依据题图2知,温度在480~520℃时,SiCl4转化率较高,480~520℃为反应相宜温度,正确。(4)依据盖斯
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