2026秋招：北方华创面试题及答案

2026秋招：北方华创面试题及答案

单项选择题（每题2分，共10题）1.半导体制造中光刻的主要作用是？A.去除杂质B.定义电路图案C.增加导电性D.提高芯片强度2.以下哪种气体常用于等离子刻蚀？A.氧气B.氮气C.氯气D.氢气3.北方华创主要业务不包括？A.半导体装备B.真空装备C.新能源汽车D.锂电装备4.芯片制造流程中，氧化层生长在哪个环节？A.光刻前B.光刻后C.刻蚀前D.刻蚀后5.衡量真空泵性能的重要指标不包括？A.抽气速率B.极限真空度C.噪音大小D.压缩比6.以下哪种材料常用于半导体衬底？A.玻璃B.硅C.铜D.铁7.北方华创的企业文化中不包含以下哪项？A.创新B.协作C.垄断D.责任8.在化学气相沉积（CVD）中，哪种气体可作为硅源？A.甲烷B.硅烷C.乙烷D.丙烷9.半导体制造洁净室等级通常用什么表示？A.ISO等级B.ASTM等级C.GB等级D.DIN等级10.北方华创的产品主要应用于哪个行业？A.农业B.半导体C.服装业D.食品业多项选择题（每题2分，共10题）1.北方华创的半导体装备包括以下哪些？A.刻蚀机B.镀膜设备C.光刻机D.清洗机2.以下属于芯片制造关键工艺的有？A.光刻B.刻蚀C.掺杂D.封装3.真空装备在哪些方面有应用？A.半导体制造B.新材料研发C.航空航天D.食品加工4.半导体制造中常见的光刻技术有？A.紫外光刻B.极紫外光刻C.电子束光刻D.离子束光刻5.北方华创的核心价值观包括？A.客户为先B.诚信尽责C.开放创新D.合作共赢6.化学气相沉积（CVD）技术可用于制备哪些薄膜？A.氧化硅膜B.氮化硅膜C.碳化硅膜D.金属膜7.半导体封装的主要作用有？A.保护芯片B.电气连接C.散热D.减小体积8.北方华创的研发优势体现在哪些方面？A.专业的研发团队B.充足的研发资金C.先进的研发设备D.有效的研发管理体系9.以下哪些是等离子刻蚀的优点？A.高精度B.高选择性C.低损伤D.低成本10.半导体行业的发展趋势有？A.集成电路制程不断缩小B.功率半导体需求增加C.化合物半导体应用拓展D.半导体设备国产化加速判断题（每题2分，共10题）1.北方华创不涉足半导体检测设备领域。（）2.光刻是将光刻胶图案转移到半导体衬底上的过程。（）3.真空度越高，气体分子密度越大。（）4.北方华创注重员工的职业发展。（）5.化学机械抛光（CMP）主要用于芯片表面的平坦化。（）6.半导体制造不需要在洁净环境中进行。（）7.北方华创的产品只面向国内市场。（）8.离子注入是一种精确的掺杂方法。（）9.薄膜沉积技术对半导体性能没有影响。（）10.北方华创在半导体装备行业具有较高的知名度。（）简答题（每题5分，共4题）1.简述北方华创在半导体装备领域的优势。2.芯片制造中光刻的关键步骤有哪些？3.真空装备在半导体制造中有什么重要作用？4.举例说明北方华创的产品如何推动半导体行业发展。讨论题（每题5分，共4题）1.讨论半导体行业对人才的需求特点以及北方华创吸引人才的策略。2.分析北方华创在面对国际竞争时的机遇与挑战。3.探讨北方华创如何通过技术创新提升其产品竞争力。4.谈谈你对北方华创未来发展方向的看法。答案单项选择题1.B2.C3.C4.A5.C6.B7.C8.B9.A10.B多项选择题1.ABD2.ABCD3.ABC4.ABCD5.ABCD6.ABCD7.ABC8.ABCD9.ABC10.ABCD判断题1.×2.√3.×4.√5.√6.×7.×8.√9.×10.√简答题1.北方华创技术实力强，有专业研发团队。产品种类丰富，涵盖刻蚀、镀膜等。服务优质，重视客户反馈。且有政策支持，利于发展。2.主要步骤为衬底制备、光刻胶涂覆、曝光、显影、坚膜。通过光刻可将掩膜图案精确转移到衬底上。3.可提供洁净无杂质的环境，避免污染芯片。利于薄膜沉积、刻蚀等工艺进行，保证工艺稳定性和产品质量。4.如北方华创的刻蚀机，能实现高精度刻蚀，提高芯片制造的良率和性能，推动芯片制程向更小尺寸发展。讨论题1.半导体需求专业、创新人才。北方华创可提供良好研发环境、培训机会和有竞争力薪酬福利吸引人才。2.机遇有政策支持、国产替代需求。挑战是国际巨头技术领先、竞争