光刻胶配套试剂检测技师（初级）考试试卷及答案

光刻胶配套试剂检测技师（初级）考试试卷及答案一、填空题（共10题，每题1分）1.光刻胶配套试剂中，用于溶解未曝光光刻胶的是______。2.检测试剂微量水分常用______水分仪。3.光刻胶显影液主要分为碱性和______两类。4.试剂纯度检测常用______气相色谱法。5.检测试剂pH值需用校准后的______。6.光刻胶配套试剂储存温度通常控制在______℃。7.清洗硅片残留试剂的配套试剂是______。8.检测试剂金属杂质常用______光谱仪。9.试剂包装容器常用______惰性材质（如特氟龙）。10.试剂检测前需确认名称、批号和______。二、单项选择题（共10题，每题2分）1.不属于光刻胶配套试剂的是？A.显影液B.剥离液C.盐酸D.清洗液2.碱性显影液主要成分是？A.NaOHB.TMAHC.氨水D.碳酸钠3.归一化法适用于色谱检测的条件是？A.所有组分出峰B.仅一种组分出峰C.已知含量组分D.微量组分4.卡尔费休水分仪原理基于？A.氧化还原B.酸碱反应C.络合反应D.沉淀反应5.试剂储存错误做法是？A.密封B.避光C.与强酸混放D.控温6.检测不挥发物常用方法是？A.干燥失重B.GCC.滴定D.分光光度7.检测有机物残留常用仪器是？A.GC-MSB.ICP-OESC.pH计D.水分仪8.与显影速度无关的因素是？A.温度B.浓度C.pHD.储存时间9.试剂取样量应？A.越多越好B.符合方法要求C.越少越好D.随机10.检测时不需要的防护是？A.防毒面具B.防静电服C.橡胶手套D.实验服三、多项选择题（共10题，每题2分）1.光刻胶配套试剂检测项目包括？A.纯度B.水分C.pHD.金属杂质2.常用配套试剂有？A.显影液B.剥离液C.清洗液D.稀释剂3.卡尔费休水分仪组成部分？A.滴定单元B.搅拌单元C.检测单元D.显示单元4.检测前准备工作包括？A.仪器校准B.样品混匀C.空白试验D.穿防护用品5.碱性显影液特性？A.腐蚀性B.易挥发C.选择性溶解D.无毒性6.金属杂质检测方法？A.ICP-OESB.ICP-MSC.原子吸收D.GC7.试剂储存要求？A.密封B.避光C.低温（<0℃）D.远离火源8.取样原则？A.代表性B.均匀性C.适量性D.随意性9.pH校准用标准缓冲液？A.pH4.00B.pH6.86C.pH9.18D.pH10.0010.试剂包装要求？A.密封性好B.惰性材质C.标识清晰D.容量越大越好四、判断题（共10题，每题2分）1.剥离液溶解已曝光光刻胶。（）2.卡尔费休可检测所有试剂水分。（）3.碱性显影液pH<7。（）4.空白试验消除仪器误差。（）5.试剂纯度越高性能越好。（）6.不挥发物干燥温度105℃。（）7.配套试剂可与普通试剂混放。（）8.取样直接取瓶底样品。（）9.ICP-OES检测有机物。（）10.pH检测无需校准。（）五、简答题（共4题，每题5分）1.简述显影液的作用及分类。2.简述卡尔费休水分仪操作步骤。3.简述试剂检测前样品处理要求。4.简述pH检测的意义及注意事项。六、讨论题（共2题，每题5分）1.讨论水分超标对光刻工艺的影响及控制措施。2.讨论归一化法与外标法在纯度检测中的适用场景及优缺点。---参考答案一、填空题1.剥离液2.卡尔费休3.有机溶剂型4.归一化5.pH计6.0-257.清洗液8.电感耦合等离子体（ICP）9.特氟龙（或石英）10.有效期二、单项选择题1.C2.B3.A4.A5.C6.A7.A8.D9.B10.B三、多项选择题1.ABCD2.ABCD3.ABCD4.ABCD5.AC6.ABC7.ABD8.ABC9.ABC10.ABC四、判断题1.×2.√3.×4.√5.√6.√7.×8.×9.×10.×五、简答题1.显影液作用及分类：作用：选择性溶解未曝光光刻胶，保留已曝光交联图形。分类：①碱性水溶液显影液（主要成分为TMAH，适用于正性光刻胶，无硅片腐蚀）；②有机溶剂型显影液（如PGMEA，适用于负性或EUV光刻胶，避免碱性腐蚀）。2.卡尔费休水分仪操作：①开机预热，校准仪器（用标准水）；②取适量样品（根据水分含量调整）；③注入滴定杯，启动自动滴定；④仪器通过电位变化判断终点，自动计算水分含量；⑤清洗滴定杯，记录数据并核对试剂信息。3.样品处理要求：①取样：摇匀试剂后取代表性样品；②量：按检测项目定（如水分1-5g）；③预处理：固体溶解、悬浮颗粒过滤（0.22μm）；④防污染：工具干燥洁净；⑤标识：标注名称、批号、日期。4.pH检测意义及注意事项：意义：影响显影速度（如TMAH需pH≈12）、避免硅片腐蚀。注意：①校准用pH4.00/6.86/9.18缓冲液；②控温25±2℃；③搅拌避免气泡；④电极用后冲洗保存于保护液。六、讨论题1.水分超标影响及控制：影响：显影液浓度降低→分辨率下降；剥离液溶解能力差→残留光刻胶；清洗液引入杂质→污染硅片。控制：①密封储存于干燥环境（湿度<60%）；②氮气密封包装；③到货检测水分（<0.01%）；④取样后立即密封；⑤超标用分子筛干燥复测。2.归一化法与外标法对比：适用场景：①归一化法：所有组分出峰（如杂