《芯片工艺流程》PPT课件

1、芯片生产工艺流程（课件）,单晶拉制（1）,单晶拉制（2）,单晶拉制（3）,单晶拉制（4）,单晶拉制（5）,环境和着装,单项工艺-扩散(1),卧式4炉管扩散/氧化炉,扩散/氧化进炉实景图,单项工艺-扩散(2),立式扩散/氧化炉,扩散/氧化进炉实景图,单项工艺-扩散(3),扩散工序作业现场,单项工艺-光刻(1),先进光刻曝光设备,单项工艺-光刻(2),现场用光刻曝光设备,单项工艺-光刻(3),检查用显微镜,单项工艺-光刻(4),清 洗,淀积/生长隔离层,匀 胶,（SiO2 Si3N4 金属）,-HMDS喷淋（增加Si的粘性） -匀光刻胶,单项工艺-光刻(5),前 烘,对 版,匀 胶,-对每个圆片必

2、须按要求对版,-用弧光灯将光刻版上的图案转 移到光刻胶上。,-增加黏附作用 -促进有机溶剂挥发,单项工艺-光刻(6),显影/漂洗,坚 膜,腐 蚀,-硬化光刻胶。 -增加与硅片的附着性。,-将圆片进行显影/漂洗，不需要的的光刻胶溶解到有机溶剂。,去 胶,-干法腐蚀/湿法腐蚀,单项工艺-光刻(7),光刻工艺过程,单项工艺-CVD（1）,单项工艺-CVD（2）,初级离子气体被吸收到硅片表面,单项工艺-CVD（3）,初级离子气体在硅片表面分解,单项工艺-CVD（4）,玻 璃 的 解 吸,单项工艺-CVD（5）,单相工艺-离子注入（1）,单相工艺-离子注入（2）,单相工艺-离子注入（3）,单相工艺-蒸发

3、（1）,蒸发原理示意图,单相工艺-蒸发（2）,溅射原理示意图,单相工艺-蒸发（3）,单相工艺-清洗,基础认知,衬底材料,扩散层,外延层,单晶片,扩散片,外延片,一次氧化,sio,2,外延层,基区光刻,sio,2,外延层,干氧氧化,sio,外延层,2,离子注入,sio,外延层,2,杂质注入,基区扩散,sio,外延层,2,基区,发射区光刻,sio,外延层,2,基区,发射区预淀积,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,发射区扩散（*）,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,发射区低温氧化（*）,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,氢气处理,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,N+

4、光刻（适用于P型片）,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,N+淀积扩散（适用P型片）,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,N+低温氧化（适用P型片）,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,氢气处理（适用P型片）,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,3B光刻,sio,外延层,2,基区,发射区,集电区,铝蒸发,AL,外延层,基区,发射区,集电区,四次光刻,AL,外延层,基区,发射区,集电区,氮氢合金,AL,外延层,基区,发射区,集电区,AL上CVD,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,氮气烘焙（适用N型片）,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,五次光刻,SiO,外

5、延层,基区,发射区,集电区,2,中测抽测,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,测试系统,减薄、抛光,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,减薄和抛光部分,蒸金/银,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,背金合金,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,芯片测试,SiO,外延层,基区,发射区,集电区,2,测试系统,N型片制造（一般）工艺流程,N型片投片和编批,一次氧化,基区光刻,干氧氧化,硼离子注入,基区扩散,发射区光刻,发射区磷预淀积,发射区扩散,发射区低温氧化,3次光刻,铝蒸发,氮氢合金,铝上CVD,五次光刻,氮气烘焙,中测抽测,背面合金,芯片测试,减薄/抛光,四次光刻,氢气处理,蒸金,P型片制造（一般）工艺流程,P型投片编批,一次氧化,基区光刻,发射区硼预淀积,磷离子注入,基区扩散,发射区光刻,发射区低温氧化,N+