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文档简介

铁、铜、银等金属的自然氧化铁、铜、银等金属的自然氧化 硅、硫、磷等非金属的自然氧化硅、硫、磷等非金属的自然氧化氧化剂（氧分子或水分子）通过扩散到达氧化剂（氧分子或水分子）通过扩散到达Si与与Si02界面同界面同Si发发生反应，其过程如下：生反应，其过程如下：1、氧化剂扩散穿过滞留层达到、氧化剂扩散穿过滞留层达到SiO2 表面，其流密度为表面，其流密度为F1 。2、氧化剂扩散穿过、氧化剂扩散穿过SiO2 层达到层达到SiO2-Si界面，流密度为界面，流密度为F2 。3、氧化剂在、氧化剂在Si 表面与表面与Si 反应生成反应生成SiO2 ，流密度为，流密度为F3 。4、反应的副产物离开界面。、反应的副产物离开界面。 氧化前氧化前 氧化后氧化后 氧化消耗硅的厚度是二氧化硅厚度的氧化消耗硅的厚度是二氧化硅厚度的左右左右氧化前氧化前氧化后氧化后242426SiO +4HFSiF +2H OSiF +2HFH (SiF ) 厚度厚度2500-15000 厚度厚度2500-15000

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