电子ビーム描画装置の机能および操作方法

電子ビーム描画装置の機能および操作方法

大阪府立産業技術総合研究所佐藤和郎電子ビーム描画装置JBX-5000SI電子線源LaB6加速電圧25KVor50KV試料径

ホルダーによる最小ビーム径8nmつなぎ精度 60nm/40nm重ね合わせ精度60nm/40nm描画方式 ベクトルスキャン日本電子株式会社製ホルダーについて1インチ□4枚厚み1mm2インチ○2枚厚み1mm1インチ□＋2インチ○厚み1mmor5mm3インチ○1枚厚み1mm4インチ○1枚厚み1mm5インチ□1枚フォトマスク作製用EBの鏡筒部実際のプロセスレジスト塗布プリベーク電子線描画基板現像作製した素子電子ビーム描画装置を用いて作製したバイナリータイプの光学素子作製した素子電子ビーム描画装置で作製したマルチレベルタイプの光学素子微細加工フローチャートパターンの準備レジストの選択基板の洗浄レジスト塗布必要ならばエスペーサー塗布EB装置の調整EB描画現像必要ならばエッチング性能評価描画時間計算パターンの準備パターンファイルの作成パターンファイルの変換ジョブデックファイル、スケジュールファイルの変換描画パターンの準備終了パターンファイルとはj01フォーマットは、0.1μmを根本単位とするテキスト形式のフォーマットです。最小0.1μmのパターンまで記述することができます。矩形やリング等を記述するコマンドがあります。x01フォーマットは、j01フォーマットを拡張したものです。1μmを根本単位とし0.1μm以下のパターンも記述できます。他の点はj01フォーマットと同じです。GDSIIフォーマットは通常のGDSII形式です。目的のパターンを所定のフォーマットで作成する必要があります。パターンファイルの変換とはj01、x01、GDSⅡパターンファイルj51ファイルパターンチェックスキャナーデータconvプログラムpchk6プログラムpreadプログラム作成したパターンファイルをEBが理解できる形式に変換する必要があります。ジョブデックファイル、スケジュールファイルとはパターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル〔実行〕ファイルを作成します。ジョブデックファイルcmplプログラムレイヤーファイルスケジュールファイル＋schdプログラムマガジンファイルレジストの種類と選択デジタル型レジストアナログ型レジスト名称P/N特徴ZEP520ポジ高解像度、低感度、安定ZEP7000ポジ低解像度、高感度、安定NEB22ネガ高解像度、高感度、不安定名称P/N特徴OEBRポジ低感度、安定、実績豊富ZEP2000ポジやや高感度、安定、厚塗り可能ポジ型レジストとネガ型レジスト現像EB露光現像EB露光ポジネガデジタル型レジストあるドーズ量を超えるとレジストが全く残膜しないバイナリー素子の作製に有効EBEBEBアナログ型レジスト与えるドーズ量によりレジストの残膜率が異なるドーズ量を適切に変調することにより、マルチレベルタイプの素子作製が可能EBEBEB基板の洗浄石英基板の洗浄プロセスの例純水で5分×3回洗浄セミコクリーンで15分洗浄純水で1分×5回洗浄エタノールで15分洗浄純水で2分洗浄IPAで2分洗浄N2ガスでブローオゾン処理レジスト、エスペーサーの塗布目標の厚みのレジストをスピンコートプライマー〔HMDS〕をスピンコートプリベーク〔ホットプレートまたはオーブン〕エスペーサーをスピンコート〔絶縁基板の場合〕ジョブデックファイル、スケジュールファイルとはパターンを基板上のどの位置に描画するか等の情報を記述するものがjdf、sdfです。これらのファイルをコンパイルすることにより、最終的にマガジンファイル〔実行〕ファイルを作成します。ジョブデックファイルcmplプログラムレイヤーファイルスケジュールファイル＋schdプログラム