PVD沉积简介ppt课件.ppt

1、2020/7/26，1薄膜材料的生长方法PVD沉积法，2020/7/26，2，1，正装LED结构中的PVD 2，PVD介绍3，生长方式：电子束蒸化，蓝宝石基板：外延纪宁生长方式：垂直拉化，PVD介绍，2020/7/26，6，PVD介绍，PVD沉积概念，2020/7/26，7，PVD介绍，一般来说，“气相沉积”是指非晶形态薄膜的生长，这种生长方式是“沉积(“VPE”是指分类为“epita XY”的单晶形式的薄膜生长方式。2020/7/26，8，PVD简介，外延的定义液体外延：将生长外层的原料溶解到溶剂中，形成饱和溶液。当溶液与基板温度相等时，将溶液复盖在基板上，慢慢冷却，溶质用基板晶体析出单晶体

2、。牙齿方法常用于砷等材料的外延生长。异质外延：基底和外延层不是相同的物质，但晶格和热膨胀系数相对一致。这样就可以在一个衬底上徐璐外延另一个晶体膜，例如在蓝宝石或尖晶石基板上外延硅单晶。(威廉莎士比亚、蓝宝石、硅、硅、硅、硅、硅、硅、硅)分子束外延：这是最新的晶体生长技术。将基板放置在超真空钢中，并根据元素将需要生长的单晶物质分别放入喷雾中。每种元素加热到适当的温度，用分子流喷射出来，就会生长出非常薄的(甚至是单原子层)单晶层和多种物质交替出现的超晶格结构。一般来说，“气相沉积症”大部分是指非晶形态薄膜的生长，这种生长方式被归类为“沉积”。“VPE”是指分类为“epita XY”的单晶形式的薄膜

3、生长方式。2020/7/26，9，PVD简介，PVD:物理过程；固态源楼梯覆盖率低、纯度高，适合积累金属CVD:化学过程。气源楼梯复盖得好，纯度不好，渡边杏使用堆积介质、等角罩、等角罩、2020/7/26，10、PVD沉积原理、2020/7/26，11、PVD沉积示意图、PVD原理或锅溅射方法：各种外形对真空的要求也很高。2020/7/26，12，能源，内衬(不加热)真空度，热敷法：要获得普通电影，不需要加热溅射方法。一般来说，加热、PVD原理、薄膜材料的制备过程几乎所有现代薄膜材料都是在真空或低气体压力下制造的。，在薄膜制备过程中，真空的作用(1)减少蒸发分子和残余气体分子的碰撞。(2)抑制

4、他们之间的反应。(。2020/7/26，13，能量、蒸发源或靶，PVD原理，2020/7/26，14，电子束蒸发器，磁控溅射，真空度，PVD原理，2020中等真空：真空度为10E-5 pa，PVD原理，2020/7/26，18，真空是PVD沉积的重要条件，普通PVD为什么需要真空：A，增加，源基准距离，累积粒子直线运动B，防止氧化等化学反应。c，提高膜层质量D，蒸发温度降低，PVD原理，分子平均自由距离：气体分子在两次碰撞间隔内经过的平均距离。假设某些气体分子的有效截面直径为D，牙齿气体分子的平均自由距离应该等于2020/7/26，19，两种茄子不同形式的PVD沉积示意图，真空镀膜法，磁控溅射

5、法，PVD原理，2020/7/26，20。离子镀的英语全称是Ion Plating，简称IP。原理：在真空状态下应用气体放电，实现涂层。也就是说，在真空室中电离气体或蒸发物质，在气体离子或蒸发物质离子的轰击下，将蒸发物质或其反应产物敷在基板上。与蒸发涂层和溅射涂层相比，除了两者的特点外，膜层的附着力强，迂回性好，可镀材料广泛，因此受到人们的关注。离子镀，PVD离子镀技术，2020/7/26，22，PVD离子镀，离子镀，2020/7/26，23，PVD离子镀，离子镀，1。真空室提取到104 2。打开高压电源，在蒸发源和基板之间设置低压气体放电等离子区。3.由于基板处于负高压下，被等离子包围，受到

6、阳离子不断轰击，因此可以有效地去除基板表面的气体和污物，使薄膜过程中的膜层表面始终保持清洁。4.与此同时，电镀材料蒸发后，蒸发粒子进入等离子体，与等离子体的正离子和激活的惰性气体原子及电子碰撞，一些蒸发粒子电离为正离子，正离子在负高压电场加速作用下积聚在基板表面形成膜。由此可见，离子镀层的核和生长所需的能量不是通过加热方式获得的，而是通过离子加速获得的。(威廉莎士比亚、离子涂层、离子、离子、离子、离子、离子、离子、离子、离子)、2020/7/26，24、PVD离子镀、离子镀与蒸发和溅射相比，具有以下特点：(1)膜层附着性好。a .在离子镀过程中，利用辉光放电产生的大量高能粒子，在基板表面产生阴

7、极溅射效果，溅射吸附在基板表面的气体和油污，净化基板表面，直到整个涂层过程完成。b .在Mattox称为“医生扩散层”的膜基础界面上形成组过渡层或膜材料和基板的成分混合层，从而有效提高膜层附着性能。(2)膜层密度大(通常等于大材料密度)。在离子镀过程中，膜材料离子和高能中性原子具有很高的能量，可以到达基态，在基态上扩散和移动。而且膜材料原子即使在空间飞行过程中形成蒸汽团，到达基板时也能被离子轰击打破，形成小核心，生长成致密的等轴晶体。(3)衍射性能好。在离子镀过程中，一些膜材原子化为正离子，然后沿着电场的电力线方向移动，那么电力线分布的任何地方都能到达膜材离子。(4)可镀金的材料范围很广。可以在金属或非金属表面镀金属或非金属材料。(5)有利于化合物膜层的形成。蒸发金属的同时，通过真空室通过特定的反应气体，就能产生化合物。辉光放电在低温等离子体中高能电子的作用下，将传记能量转化为金属粒子的反应活化能，形成